| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| 引言 | 第11页 |
| 1.1 纳米材料简介 | 第11-12页 |
| 1.2 薄膜材料简介 | 第12-13页 |
| 1.3 薄膜材料的制备方法 | 第13-16页 |
| 1.3.1 液相法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 气相法 | 第14-16页 |
| 1.4 薄膜的生长方式 | 第16-17页 |
| 1.5 薄膜材料的应用 | 第17-18页 |
| 1.6 纳米晶材料的力学性能 | 第18-24页 |
| 1.6.1 强度和硬度 | 第18-19页 |
| 1.6.2 塑性 | 第19-21页 |
| 1.6.3 蠕变变形 | 第21-23页 |
| 1.6.4 应变速率敏感性 | 第23-24页 |
| 1.7 纳米材料的热稳定性 | 第24-26页 |
| 1.8 选题意义与研究内容 | 第26-29页 |
| 第2章 实验 | 第29-41页 |
| 2.1 实验材料 | 第29页 |
| 2.2 磁控溅射制膜 | 第29-33页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第29-31页 |
| 2.2.2 薄膜制备过程 | 第31页 |
| 2.2.3 工艺参数的选择 | 第31-33页 |
| 2.3 薄膜的形貌检测方法 | 第33-36页 |
| 2.3.1 薄膜的XRD检测 | 第33-34页 |
| 2.3.2 薄膜的TEM及EDS检测 | 第34-36页 |
| 2.4 薄膜的力学性能检测方法 | 第36-41页 |
| 第3章 固溶钽原子对纳米晶铜的显微组织和力学性能的影响 | 第41-51页 |
| 3.1 显微组织结构观察与分析 | 第41-42页 |
| 3.1.1 X-射线衍射分析 | 第41-42页 |
| 3.1.2 透射电子显微镜分析 | 第42页 |
| 3.2 力学性能研究和分析 | 第42-48页 |
| 3.2.1 基本力学性能 | 第43-44页 |
| 3.2.2 蠕变性能分析 | 第44-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-51页 |
| 第4章 晶界偏析钽原子对纳米晶铜的显微组织和力学性能的影响 | 第51-63页 |
| 引言 | 第51页 |
| 4.1 回火处理后的显微组织结构观察与分析 | 第51-54页 |
| 4.1.1 X-射线衍射分析 | 第51-52页 |
| 4.1.2 透射电子显微镜分析 | 第52-53页 |
| 4.1.3 能谱分析 | 第53-54页 |
| 4.2 力学性能研究和分析 | 第54-61页 |
| 4.2.1 基本力学性能 | 第54-56页 |
| 4.2.2 蠕变性能分析 | 第56-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 第5章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |