| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.1.2 Ag膜的表面等离子体（SPP）效应 | 第10页 |
| 1.1.3 突破衍射极限的技术-----超分辨技术 | 第10-11页 |
| 1.1.4 Ag膜的表面等离子体（SPP）效应-----超透镜 | 第11页 |
| 1.2 Ag膜表面研究的国内外现状分析 | 第11-12页 |
| 1.3 薄膜制备方法 | 第12-14页 |
| 1.3.1 磁控溅射 | 第12-13页 |
| 1.3.2 电阻蒸发 | 第13页 |
| 1.3.3 电子束蒸发 | 第13-14页 |
| 1.4 薄膜表征 | 第14-17页 |
| 1.4.1 薄膜表面形貌 | 第14-16页 |
| 1.4.2 薄膜厚度测量 | 第16-17页 |
| 1.4.3 薄膜光学性质 | 第17页 |
| 1.5 本论文主要研究内容及创新点 | 第17-18页 |
| 2 理论模拟Ag层粗糙度对超分辨光刻成像的影响 | 第18-23页 |
| 引言 | 第18-19页 |
| 2.1 超分辨结构模型 | 第19-20页 |
| 2.2 数值模拟结果 | 第20-23页 |
| 2.2.1 银粗糙度对成像质量对比度的影响 | 第20页 |
| 2.2.2 银粗糙度对成像质量电场强度分布的影响 | 第20-23页 |
| 3 磁控溅射制备Ag膜及其性质的研究 | 第23-36页 |
| 3.1 磁控溅射制备Ag膜 | 第23-26页 |
| 3.1.1 基片清洗 | 第23页 |
| 3.1.2 实验过程 | 第23-26页 |
| 3.2 Ag薄膜表征 | 第26-27页 |
| 3.2.1 Ag薄膜厚度测量 | 第26页 |
| 3.2.2 Ag薄膜表面形貌及粗糙度 | 第26-27页 |
| 3.3 结果分析 | 第27-35页 |
| 3.3.1 溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第27-28页 |
| 3.3.2 溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第28页 |
| 3.3.3 溅射气压对薄膜表面形貌及粗糙度的影响 | 第28-32页 |
| 3.3.4 溅射功率对薄膜表面形貌及粗糙度的影响 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 加入种子层（Cu）制备的Ag膜 | 第36-40页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 真空蒸发制备Ag膜和Cu:Ag膜 | 第36-37页 |
| 4.3 薄膜表面形貌, | 第37-38页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第38-39页 |
| 4.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 5 总结与展望 | 第40-42页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第40页 |
| 5.2 展望 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 在校期间的科研成果 | 第48页 |