摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 CrCN复合薄膜 | 第9-11页 |
1.1.1 过渡族金属氮化物薄膜 | 第9-10页 |
1.1.2 多组元CrCN复合薄膜 | 第10-11页 |
1.2 磁过滤真空阴极弧沉积技术 | 第11-16页 |
1.2.1 真空阴极弧沉积技术 | 第11-13页 |
1.2.2 磁过滤阴极弧沉积技术 | 第13-16页 |
1.2.3 磁过滤阴极弧沉积技术的应用 | 第16页 |
1.3 本文的研究意义及研究内容 | 第16-19页 |
1.3.1 研究意义 | 第16-17页 |
1.3.2 研究内容 | 第17页 |
1.3.3 研究特色和创新性 | 第17-19页 |
第二章 CrCN薄膜的制备及分析测试方法 | 第19-26页 |
2.1 实验设备磁过滤真空阴极弧沉积系统 | 第19-20页 |
2.2 实验材料 | 第20页 |
2.3 样品制备 | 第20-22页 |
2.3.1 基材预处理 | 第20-21页 |
2.3.2 相同乙炔氮气比例下CrCN复合薄膜的制备 | 第21页 |
2.3.3 不同乙炔比例下CrCN复合薄膜的制备 | 第21-22页 |
2.4 CrCN复合薄膜的分析测试方法 | 第22-25页 |
2.4.1 薄膜表面形貌分析 | 第22-23页 |
2.4.2 薄膜结构成分分析 | 第23-24页 |
2.4.3 薄膜性能分析 | 第24-25页 |
2.5 本章小结 | 第25-26页 |
第三章 相同乙炔氮气比例下CrCN复合薄膜的分析测试 | 第26-36页 |
3.1 相同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的场发射电子扫描显微镜分析(FESEM) | 第26-27页 |
3.2 相同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的扫描探针显微镜分析(SPM) | 第27-29页 |
3.3 相同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的透射电子显微镜分析(TEM) | 第29-30页 |
3.4 相同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的X射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
3.5 相同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的X射线光电子能谱分析(XPS) | 第31-33页 |
3.6 本章小结 | 第33-36页 |
第四章 不同乙炔氮气比例下CrCN复合薄膜的分析测试 | 第36-50页 |
4.1 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的结构分析 | 第36-43页 |
4.1.1 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的场发射电子扫描显微镜分析(FESEM) | 第36-37页 |
4.1.2 不同乙炔氮气比例下 Cr CN 薄膜的 X 射线衍射分析(XRD) | 第37-38页 |
4.1.3 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的X射线光电子能谱分析(XPS) | 第38-42页 |
4.1.4 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的Raman光谱分析(Raman) | 第42-43页 |
4.2 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的性能分析 | 第43-47页 |
4.2.1 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的纳米硬度和弹性模量分析 | 第43-46页 |
4.2.2 不同乙炔氮气比例下CrCN薄膜的摩擦系数测试 | 第46-47页 |
4.3 本章小结 | 第47-50页 |
第五章 结论和展望 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-60页 |
致谢 | 第60-62页 |
攻读硕士期间学术成果 | 第62页 |