石墨层间化合物剥离制备石墨烯及其性能研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第16-34页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 石墨烯 | 第16-23页 |
| 1.2.1 石墨烯的研究历史 | 第16-17页 |
| 1.2.2 石墨烯的形态与结构 | 第17-19页 |
| 1.2.3 石墨烯的电子特性 | 第19-20页 |
| 1.2.4 石墨烯的机械性能 | 第20页 |
| 1.2.5 石墨烯的光学特性 | 第20-21页 |
| 1.2.6 石墨烯的热学性质 | 第21-23页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第23-28页 |
| 1.3.1 机械剥离法 | 第23页 |
| 1.3.2 氧化还原法 | 第23-24页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第24-25页 |
| 1.3.4 化学剥离法 | 第25-26页 |
| 1.3.5 外延生长法 | 第26-27页 |
| 1.3.6 超临界流体剥离法 | 第27-28页 |
| 1.4 石墨层间化合物 | 第28-31页 |
| 1.4.1 研究历史与现状 | 第28-29页 |
| 1.4.2 结构与形成机理 | 第29-30页 |
| 1.4.3 石墨层间化合物的制备 | 第30-31页 |
| 1.5 本课题的研究目的、意义及研究内容 | 第31-34页 |
| 1.5.1 课题研究的目的 | 第31页 |
| 1.5.2 课题研究的意义 | 第31-32页 |
| 1.5.3 本课题的研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 石墨层间化合物的制备 | 第34-48页 |
| 2.1 前言 | 第34页 |
| 2.2 实验中用到的试剂与仪器 | 第34-35页 |
| 2.3 样品的制备与表征 | 第35-36页 |
| 2.3.1 石墨层间化合物的制备 | 第35页 |
| 2.3.2 样品的表征 | 第35-36页 |
| 2.3.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第35页 |
| 2.3.2.2 拉曼(Raman)光谱分析 | 第35-36页 |
| 2.3.2.3 扫描与透射电子显微镜分析 | 第36页 |
| 2.3.2.4 X射线电子能谱(XPS)分析 | 第36页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第36-47页 |
| 2.4.1 使用氯化铝插层制备GICs | 第36-37页 |
| 2.4.2 使用氯化铁插层制备GICs | 第37-40页 |
| 2.4.3 使用氯化铝与氯化铁插层制备GICs | 第40-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 热膨胀法制备石墨烯及其性能研究 | 第48-66页 |
| 3.1 前言 | 第48页 |
| 3.2 实验中用到的试剂与仪器 | 第48-49页 |
| 3.3 样品的制备与表征 | 第49-51页 |
| 3.3.1 石墨层间化合物的制备 | 第49页 |
| 3.3.2 石墨烯的制备与测试样品的制备 | 第49-50页 |
| 3.3.2.1 热膨胀制备石墨烯 | 第49页 |
| 3.3.2.2 测试样品的制备 | 第49-50页 |
| 3.3.3 样品的表征 | 第50-51页 |
| 3.3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第50页 |
| 3.3.3.2 拉曼(Raman)光谱分析 | 第50页 |
| 3.3.3.3 扫描与透射电子显微镜分析 | 第50页 |
| 3.3.3.4 XPS与AFM分析 | 第50页 |
| 3.3.3.5 样品的电导率测试 | 第50-51页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第51-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 第四章 结论部分 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 学术成果及发表的学术论文 | 第74-76页 |
| 作者及导师简介 | 第76-78页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第78-79页 |
