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综合效应下模拟电路性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-14页
第一章 绪论第14-24页
    1.1 研究背景及意义第14-19页
        1.1.1 IC的可靠性问题第14-15页
        1.1.2 总剂量及综合效应的研究背景及其影响第15-17页
        1.1.3 总剂量及综合效应可靠性研究意义第17-19页
    1.2 NBTI、HCI及总剂量效应研究现状第19-21页
    1.3 论文的主要内容和结构安排第21-24页
第二章 MOSFET可靠性模型第24-42页
    2.1 器件级可靠性模型第24-29页
        2.1.1 反应-扩散参数模型第24-27页
        2.1.2 俘获-脱阱参数模型第27-29页
    2.2 电路级长期模型第29-32页
        2.2.1 NBTI的长期退化模型第29-31页
        2.2.2 CHC的长期退化模型第31-32页
    2.3 总剂量效应模型第32-40页
        2.3.1 MOSFET的总剂量效应第32-36页
        2.3.2 STI结构总剂量效应第36-39页
        2.3.3 TID与CHC综合效应模型第39-40页
    2.4 本章小结第40-42页
第三章 差分放大器的退化分析第42-50页
    3.1 差分放大器第42-44页
        3.1.1 电路介绍第42-43页
        3.1.2 电路可靠性分析流程第43-44页
    3.2 差分放大器退化分析第44-48页
        3.2.1 电路级长期模型的数值分析方法第44-46页
        3.2.2 MATLAB联合SPICE的迭代分析第46-48页
    3.3 本章小结第48-50页
第四章 压控振荡器的综合效应退化分析第50-62页
    4.1 VCO应力原理第50-55页
        4.1.1 振荡器基本结构及工作原理第50-52页
        4.1.2 退化分析第52-53页
        4.1.3 压控振荡器及其频率调谐第53-55页
    4.2 VCO的迭代退化分析第55-60页
        4.2.1 综合效应下电路退化分析第55-60页
    4.3 本章小结第60-62页
第五章 总结与展望第62-64页
    5.1 论文总结第62-63页
    5.2 工作展望第63-64页
参考文献第64-68页
致谢第68-70页
作者简介第70-71页

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