| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| §1.1 局域表面等离激元共振简介 | 第9-10页 |
| §1.2 基于表面等离激元效应的光学天线 | 第10-12页 |
| §1.3 荧光分子和等离激元光学天线的耦合 | 第12-15页 |
| §1.3.1 分子与光学天线相耦合产生荧光的基本原理 | 第12-14页 |
| §1.3.2 分子和光学天线耦合的其他效应 | 第14-15页 |
| §1.4 本章小结 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 金属/介质-核/壳结构光学天线的特性计算 | 第19-35页 |
| §2.1 引言 | 第19页 |
| §2.2 单分子荧光的计算方法 | 第19-21页 |
| §2.3 球形金属颗粒光学天线对分子荧光的增强 | 第21-24页 |
| §2.4 金属/介质-核/壳结构光学天线对分子荧光的增强 | 第24-32页 |
| §2.4.1 金属/介质-核/壳结构光学天线的场分布特性 | 第24-27页 |
| §2.4.2 金属/介质-核/壳结构光学天线进一步提高荧光强度 | 第27-28页 |
| §2.4.3 金属/介质-核/壳结构光学天线的结构优化 | 第28-32页 |
| §2.5 本章小结 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 金属/介质-核/壳结构样品的制备和结构参数的表征 | 第35-47页 |
| §3.1 引言 | 第35页 |
| §3.2 样品制备过程中的微加工技术 | 第35-38页 |
| §3.2.1 纳米球刻印技术 | 第35-36页 |
| §3.2.2 ICP-RIE | 第36页 |
| §3.2.3 溅射镀膜技术 | 第36-37页 |
| §3.2.4 原子层沉积镀膜技术 | 第37页 |
| §3.2.5 旋转涂膜法 | 第37-38页 |
| §3.3 样品的制备过程 | 第38-39页 |
| §3.4 样品透射线性谱的测量和结构参数表征 | 第39-44页 |
| §3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 金属/介质-核/壳结构样品对分子荧光的增强 | 第47-55页 |
| §4.1 引言 | 第47页 |
| §4.2 样品荧光光谱的测量及荧光增强的表征 | 第47-50页 |
| §4.3 样品结构参数对荧光增强的影响 | 第50-53页 |
| §4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 全文总结 | 第55-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
