| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第14-38页 |
| 1.1 多铁性材料简介 | 第14-22页 |
| 1.1.1 多铁性材料研究进展概述 | 第14-16页 |
| 1.1.2 材料的铁电性简介 | 第16-18页 |
| 1.1.3 材料的磁性介绍 | 第18-22页 |
| 1.2 窄带隙多铁性氧化物研究意义 | 第22-28页 |
| 1.2.1 传统半导体太阳能电池工作原理简介 | 第22-25页 |
| 1.2.2 铁电材料体光伏效应原理简介 | 第25-27页 |
| 1.2.3 "带隙调节工程"概念及方法总结 | 第27-28页 |
| 1.3 本论文所涉及的材料表征手段简介 | 第28-29页 |
| 1.4 本论文研究目标和主要内容 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-38页 |
| 第二章 Tb掺杂对ABO_3型钙钛矿Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜微结构和光磁性质的调控 | 第38-76页 |
| 2.1 引言 | 第38-39页 |
| 2.2 在不同基片上制备ABO_3型钙钛矿Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜 | 第39-42页 |
| 2.3 后退火温度和时间对BiFeO_3薄膜结构的调控 | 第42-44页 |
| 2.4 石英基片上生长的Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的性能研究 | 第44-55页 |
| 2.4.1 Tb组分含量对Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的微结构的调控 | 第44-50页 |
| 2.4.2 Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的光学带隙线性降低效应研究 | 第50-53页 |
| 2.4.3 Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜中单调递增的铁磁性现象研究 | 第53-55页 |
| 2.5 FTO基片上生长的Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的性能研究 | 第55-67页 |
| 2.5.1 基片效应对Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的微结构的控制 | 第55-62页 |
| 2.5.2 掺杂和相变竞争机制对Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜光学禁带宽度的调控 | 第62-64页 |
| 2.5.3 Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的非线性铁磁增长现象探究 | 第64-67页 |
| 2.5.4 Bi_(0.91)Tb_(0.09)FeO_3薄膜的电学性质研究 | 第67页 |
| 2.6 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 第三章 ABO_3型钙钛矿[K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜的制备和物性研究 | 第76-102页 |
| 3.1 引言 | 第76-77页 |
| 3.2 在不同基片上制备[K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜 | 第77-79页 |
| 3.3 BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)组分含量对[K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜微结构的调控 | 第79-82页 |
| 3.4 [K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜中铁磁性的线性增长现象研究 | 第82-84页 |
| 3.5 [K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜中非线性光学禁带宽度变化现象探究 | 第84-86页 |
| 3.6 [K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x薄膜中光学禁带宽度下降区(0≤x≤0.3)的结构及光磁性质探究 | 第86-90页 |
| 3.6.1 BNNO含量对KNBNNO薄膜的微结构的调控 | 第86-88页 |
| 3.6.2 掺杂组分控制KNBNNO薄膜光学禁带宽度的线性递减效应 | 第88-89页 |
| 3.6.3 KNBNNO薄膜光学禁带宽度下降区的磁性转换现象研究 | 第89-90页 |
| 3.7 基片效应对[K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3]_(1-x)[BaNi_(0.5)Nb_(0.5)O_(3-δ)]_x(x=0.3)薄膜的光学和电学调控 | 第90-95页 |
| 3.8 本章小结 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-102页 |
| 第四章 A_2B_2O_5型窄带隙铁磁性材料KBiFe_2O_5陶瓷和薄膜的合成及性质研究 | 第102-134页 |
| 4.1 引言 | 第102-103页 |
| 4.2 制备A_2B_2O_5型多铁材料KBiFe_2O_5陶瓷和薄膜 | 第103-107页 |
| 4.2.1 制备A_2B_2O_5型多铁材料KBiFe_2O_5陶瓷 | 第103-106页 |
| 4.2.2 制备A_2B_2O_5型多铁材料KBiFe_2O_5薄膜 | 第106-107页 |
| 4.3 KBiFe_2O_5陶瓷的物化性质探究 | 第107-118页 |
| 4.3.1 烧结温度对KBiFe_2O_5陶瓷微结构的调控 | 第107-111页 |
| 4.3.2 Fe原子的占位控制KBiFe_2O_5陶瓷的光学禁带宽度 | 第111-115页 |
| 4.3.3 Fe~(3+)的电子自旋状态对KBiFe_2O_5陶瓷的铁磁性强弱的调控 | 第115-118页 |
| 4.4 KBiFe_2O_5薄膜的制备和物化性能探究 | 第118-123页 |
| 4.4.1 退火温度和K/Bi化学计量比对KBiFe_2O_5薄膜微结构的调控 | 第118-121页 |
| 4.4.2 KBiFe_2O_5薄膜的磁性增长效应研究 | 第121-122页 |
| 4.4.3 温度对KBiFe_2O_5薄膜的光学带隙的调控 | 第122-123页 |
| 4.5 基片对KBiFe_2O_5薄膜的光学禁带宽度的调控 | 第123-126页 |
| 4.6 本章小结 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-134页 |
| 第五章 总结与展望 | 第134-138页 |
| 5.1 总结 | 第134-135页 |
| 5.2 展望 | 第135-138页 |
| 附录Ⅰ 攻读博士学位期间论文 | 第138-140页 |
| 附录Ⅱ 致谢 | 第140-141页 |
