| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
| 1.2 碳纳米管的性质 | 第10-12页 |
| 1.3 碳纳米管复合含能材料的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 叠氮化铜的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 2 定向碳纳米管的制备与表征 | 第17-26页 |
| 2.1 碳纳米管的制备方法概述 | 第17-18页 |
| 2.2 实验过程 | 第18-20页 |
| 2.2.1 实验药品和仪器 | 第18-20页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第20页 |
| 2.3 表征结果 | 第20-24页 |
| 2.4 碳纳米管的生长机理分析 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 填充叠氮化铜的碳纳米管复合材料的制备与表征 | 第26-42页 |
| 3.1 碳纳米管填充方案的确定 | 第26-27页 |
| 3.2 导电层的制备研究 | 第27-28页 |
| 3.2.1 磁控溅射法 | 第27页 |
| 3.2.2 涂覆导电银浆法 | 第27-28页 |
| 3.2.3 喷金法 | 第28页 |
| 3.3 沉积了碳纳米管的AAO模板的预处理 | 第28-30页 |
| 3.4 实验过程 | 第30-32页 |
| 3.4.1 实验药品和仪器 | 第30-31页 |
| 3.4.2 实验方法 | 第31页 |
| 3.4.3 实验装置 | 第31-32页 |
| 3.5 填充铜的碳纳米管复合材料的表征 | 第32-37页 |
| 3.5.1 电流密度的影响 | 第32-34页 |
| 3.5.2 沉积时间的影响 | 第34-35页 |
| 3.5.3 样品表征 | 第35-37页 |
| 3.6 叠氮化反应 | 第37-40页 |
| 3.6.1 实验过程 | 第37-38页 |
| 3.6.2 材料表征 | 第38-40页 |
| 3.7 碳纳米管的填充率问题 | 第40页 |
| 3.8 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 填充叠氮化铜的碳纳米管复合含能材料的性能研究 | 第42-57页 |
| 4.1 静电感度测试 | 第42-44页 |
| 4.1.1 静电测试原理 | 第42-43页 |
| 4.1.2 测试方法 | 第43-44页 |
| 4.1.3 结果与分析 | 第44页 |
| 4.2 填充叠氮化铜的碳纳米管复合桥膜的电爆性能研究 | 第44-54页 |
| 4.2.1 复合桥膜的制备与表征 | 第44-47页 |
| 4.2.2 测试装置及方法 | 第47-48页 |
| 4.2.3 电爆现象 | 第48-51页 |
| 4.2.4 电爆特征曲线及电爆延迟时间 | 第51-53页 |
| 4.2.5 电爆温度测试 | 第53-54页 |
| 4.3 填充叠氮化铜的碳纳米管复合薄膜的激光点火性能研究 | 第54-55页 |
| 4.3.1 测试方法 | 第54-55页 |
| 4.3.2 结果与分析 | 第55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 5 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 本文总结 | 第57-58页 |
| 5.2 不足与展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 | 第65页 |