激光转印法超材料太赫兹器件的制备技术研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 1 绪论 | 第14-26页 |
| ·研究背景及意义 | 第14-15页 |
| ·超材料 | 第15-20页 |
| ·超材料基本介绍 | 第15-17页 |
| ·超材料的电磁响应特性 | 第17-18页 |
| ·超材料的研究方法 | 第18-20页 |
| ·太赫兹超材料制备方法简介 | 第20-24页 |
| ·光刻技术简介 | 第20-21页 |
| ·激光直写技术简介 | 第21-24页 |
| ·论文章节安排 | 第24-26页 |
| 2 激光转印法超材料制备系统设计 | 第26-38页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·激光转印技术工作原理 | 第27-28页 |
| ·激光转印系统硬件组成 | 第28-31页 |
| ·激光曝光系统 | 第28页 |
| ·光束整形系统 | 第28-29页 |
| ·空间光调制器（DMD） | 第29-31页 |
| ·激光转印系统软件设计与调试 | 第31-36页 |
| ·子程序设计 | 第33-36页 |
| ·动态链接库调用 | 第36页 |
| ·小结 | 第36-38页 |
| 3 激光转印技术制备超材料工艺研究 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·样品制备步骤 | 第38-39页 |
| ·制备样品结果分析 | 第39-40页 |
| ·匀浆工艺 | 第40-43页 |
| ·溶剂挥发 | 第43-44页 |
| ·激光影响 | 第44-47页 |
| ·能量影响 | 第44-46页 |
| ·光斑影响 | 第46-47页 |
| ·DMD位图结构影响 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 4 双开口环桥式结构太赫兹谐振器的研究 | 第50-60页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·谐振器结构设计 | 第50-51页 |
| ·谐振器的数值仿真分析 | 第51-53页 |
| ·谐振器的实验制备与性能测试 | 第53-58页 |
| ·双开口环桥式谐振器的实验制备与性能测试 | 第54-55页 |
| ·互补双开口环桥式谐振器的实验制备与性能测试 | 第55-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 5 一种互补型双开口环超材料太赫兹滤波器 | 第60-67页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·滤波器结构设计 | 第61-62页 |
| ·滤波器的数值仿真与分析 | 第62-65页 |
| ·谐振峰产生机理分析 | 第62-63页 |
| ·互补开口环尺寸对滤波器的影响 | 第63-64页 |
| ·滤波器实验测试与特性分析 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 6 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·总结 | 第67页 |
| ·展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 作者简介 | 第73页 |
