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高真空烧结工艺控制系统的研究与应用

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第1章 绪论第11-14页
   ·课题背景第11-12页
   ·设计内容及思想第12-13页
   ·本课题的研究内容和核心工作第13-14页
第2章 高真空烧结工艺要求研究第14-18页
   ·高真空烧结装置第14页
   ·高真空烧结工艺第14-16页
   ·影响高真空烧结的主要因素第16-17页
     ·温度的影响第16-17页
     ·真空度的影响第17页
   ·本章小结第17-18页
第3章 高真空烧结工艺控制系统的设计第18-22页
   ·系统的总体设计第18-20页
     ·中心控制子系统第18-19页
     ·温度控制子系统第19页
     ·气路控制子系统第19页
     ·上位机监控控制子系统第19-20页
   ·控制系统整体方案第20-21页
   ·本章小结第21-22页
第4章 系统的硬件设计第22-38页
   ·系统整体硬件设计第22-23页
   ·控制器设计第23-25页
     ·PLC与各模块的通讯配置第23-24页
     ·PLC接口配置第24-25页
   ·气路执行机构第25-26页
   ·电加热系统第26-28页
   ·触摸屏的选型第28页
   ·温度检测模块的设计第28-34页
     ·工艺温度技术指标第29页
     ·ADuC845 电路第29-31页
     ·电源电路设计第31-32页
     ·复位电路设计第32-33页
     ·通信接口电路第33-34页
   ·检测装置选型第34-37页
     ·炉内温度传感器的选型第34-35页
     ·环境温度传感器的选型第35-36页
     ·真空计的选型第36-37页
   ·本章小结第37-38页
第5章 系统软件功能设计第38-71页
   ·温度检测模块设计第38-41页
     ·温度检测模块功能设计第38-40页
     ·温度检测模块通讯协议设计第40-41页
   ·PLC功能程序设计第41-59页
     ·手动/自动工艺处理程序设计第42-53页
     ·工艺温度控制程序设计第53-57页
     ·温度数据通讯及处理程序设计第57-59页
     ·故障处理程序设计第59页
   ·触摸屏界面设计第59-66页
   ·上位机界面设计第66-70页
   ·本章小结第70-71页
第6章 系统安装调试与运行第71-73页
   ·实验室调试与运行第71页
   ·现场调试阶段第71-73页
结论第73-74页
参考文献第74-77页
攻读硕士学位期间发表的学术论文和参加科研情况第77-78页
致谢第78-79页
附录第79-83页
 附录一:系统结构图第79-80页
 附录二:PLC端口接线图第80-81页
 附录三:电气控制图第81-82页
 附录四:电气接线图第82-83页
 附录五:温度检测模块电路原理图第83页

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