| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·二氧化钒的性质与应用 | 第10-13页 |
| ·二氧化钒的特殊性质 | 第10-11页 |
| ·二氧化钒的应用 | 第11-13页 |
| ·玻璃镀膜的发展 | 第13-14页 |
| ·薄膜的理论基础 | 第14-17页 |
| ·薄膜的形成理论 | 第14-15页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第15-16页 |
| ·薄膜的结构与缺陷 | 第16-17页 |
| ·温致变色薄膜的常用制备技术 | 第17-19页 |
| ·气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第18页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-20页 |
| ·本课题的提出、研究目的和意义 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究内容和方法 | 第21-23页 |
| 第2章 实验与测试 | 第23-33页 |
| ·实验原料 | 第23-24页 |
| ·金属钒靶 | 第23页 |
| ·金属钛靶 | 第23页 |
| ·玻璃基片 | 第23-24页 |
| ·工作气体 | 第24页 |
| ·反应气体 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24-26页 |
| ·磁控溅射仪 | 第24-25页 |
| ·石英管式炉 | 第25页 |
| ·辅助实验仪器：超声波清洗器 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-27页 |
| ·高温反应溅射法 | 第26页 |
| ·常温反应溅射后热处理法 | 第26-27页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第27-29页 |
| ·材料性能测试 | 第29-33页 |
| ·XP-100 轮廓膜厚分析仪 | 第29页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| ·紫外可见近红外分光光度仪 | 第31-32页 |
| ·XPS 光电子能谱分析 | 第32-33页 |
| 第3章 VO_x薄膜的制备 | 第33-47页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·VO_x薄膜的沉积速率研究 | 第34-40页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第34-36页 |
| ·工作气压对薄膜沉积速率的影响 | 第36-38页 |
| ·Ar/O_2对薄膜沉积速率的影响 | 第38-40页 |
| ·VO_x薄膜的物相结构分析 | 第40-42页 |
| ·高温溅射法制备 VO_x薄膜的 XRD 分析 | 第40-41页 |
| ·常温溅射后热处理法制备 VO_x薄膜的 XRD 分析 | 第41-42页 |
| ·VO_x薄膜的光学性能分析 | 第42-45页 |
| ·溅射功率对薄膜光学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·工作气压对薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 VO_x/TiO_2复合薄膜的制备 | 第47-63页 |
| ·引言 | 第47-49页 |
| ·VO_x/TiO_2薄膜的结构分析 | 第49-52页 |
| ·TiO_2阻挡层对薄膜物相结构的影响 | 第49-51页 |
| ·Ar/O_2对薄膜物相结构的影响 | 第51-52页 |
| ·VO_x/TiO_2薄膜的表面形貌分析 | 第52-55页 |
| ·溅射气压对薄膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·热处理制度对薄膜表面形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·VO_x/TiO_2薄膜的光学性能分析 | 第55-58页 |
| ·薄膜的近红外光透过率突变现象 | 第55-56页 |
| ·热处理制度对薄膜光学性能的影响 | 第56-58页 |
| ·VO_x/TiO_2薄膜的成分分析 | 第58-60页 |
| ·VO_x/TiO_2薄膜的相变温度测定与热滞现象 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第5章 结论与展望 | 第63-66页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70页 |