| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-12页 |
| ·二氧化钛的结构和基本性质 | 第12-14页 |
| ·光催化半导体分解水制氢原理 | 第14-16页 |
| ·二氧化钛光催化剂的掺杂改性 | 第16-18页 |
| ·金属掺杂 | 第16-17页 |
| ·非金属掺杂 | 第17-18页 |
| ·金属非金属共掺杂 | 第18页 |
| ·硅烯的理论与实验研究 | 第18-20页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 计算软件及理论方法 | 第22-24页 |
| ·WIEN2k 软件包简介 | 第22-23页 |
| ·VASP 软件包简介 | 第23-24页 |
| 第三章 二氧化钛块体材料掺杂特性的研究 | 第24-34页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·计算方法和模型 | 第25-26页 |
| ·结果和讨论 | 第26-32页 |
| ·能带结构和态密度 | 第26-30页 |
| ·光学性质 | 第30-32页 |
| ·总结 | 第32-34页 |
| 第四章 过渡金属修饰二氧化钛表面的光催化特性研究 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·计算方法和模型 | 第35-36页 |
| ·计算结果和讨论 | 第36-40页 |
| ·水分子在纯的锐钛矿相 TiO_2(100)表面的吸附和分解行为 | 第36-38页 |
| ·水分子在过渡金属修饰的锐钛矿相 TiO_2(100)面的吸附和分解行为 | 第38-40页 |
| ·结论 | 第40-42页 |
| 第五章 硅烯超晶格的电子特性研究 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·计算方法和模型 | 第43-44页 |
| ·计算结果和讨论 | 第44-53页 |
| ·六角超晶格 | 第44-51页 |
| ·正交超晶格 | 第51-53页 |
| ·总结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 附录 | 第70页 |