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二氧化钛光催化及硅烯电子结构特性研究

摘要第1-8页
Abstract第8-10页
第一章 绪论第10-22页
   ·研究背景及意义第10-12页
   ·二氧化钛的结构和基本性质第12-14页
   ·光催化半导体分解水制氢原理第14-16页
   ·二氧化钛光催化剂的掺杂改性第16-18页
     ·金属掺杂第16-17页
     ·非金属掺杂第17-18页
     ·金属非金属共掺杂第18页
   ·硅烯的理论与实验研究第18-20页
   ·本论文的主要研究内容第20-22页
第二章 计算软件及理论方法第22-24页
   ·WIEN2k 软件包简介第22-23页
   ·VASP 软件包简介第23-24页
第三章 二氧化钛块体材料掺杂特性的研究第24-34页
   ·引言第24-25页
   ·计算方法和模型第25-26页
   ·结果和讨论第26-32页
     ·能带结构和态密度第26-30页
     ·光学性质第30-32页
   ·总结第32-34页
第四章 过渡金属修饰二氧化钛表面的光催化特性研究第34-42页
   ·引言第34-35页
   ·计算方法和模型第35-36页
   ·计算结果和讨论第36-40页
     ·水分子在纯的锐钛矿相 TiO_2(100)表面的吸附和分解行为第36-38页
     ·水分子在过渡金属修饰的锐钛矿相 TiO_2(100)面的吸附和分解行为第38-40页
   ·结论第40-42页
第五章 硅烯超晶格的电子特性研究第42-54页
   ·引言第42-43页
   ·计算方法和模型第43-44页
   ·计算结果和讨论第44-53页
     ·六角超晶格第44-51页
     ·正交超晶格第51-53页
   ·总结第53-54页
第六章 结论与展望第54-56页
参考文献第56-68页
致谢第68-70页
附录第70页

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