| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·金刚石的结构 | 第12-13页 |
| ·金刚石的优异性能 | 第13-14页 |
| ·金刚石的应用 | 第14-17页 |
| ·光学领域 | 第14-15页 |
| ·热学领域 | 第15-16页 |
| ·力学领域 | 第16页 |
| ·电学领域 | 第16-17页 |
| ·MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的研究 | 第17-28页 |
| ·提高金刚石膜制备均匀性的重要性 | 第17页 |
| ·影响 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的因素 | 第17-25页 |
| ·MPCVD 法制备大面积均匀的金刚石膜 | 第25-28页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第28-29页 |
| 第二章 实验设备和表征方法 | 第29-35页 |
| ·实验装置 | 第29-30页 |
| ·样品的表征方法 | 第30-35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第30-31页 |
| ·光学金相显微镜（OM） | 第31-32页 |
| ·激光拉曼光谱仪（Raman Spectroscopy） | 第32-35页 |
| 第三章 工艺参数对 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的影响 | 第35-45页 |
| ·甲烷浓度对 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的影响 | 第35-40页 |
| ·实验部分 | 第35-36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·气压与功率对 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的影响 | 第40-45页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·实验结果与讨论 | 第42-45页 |
| 第四章 加装金属钽环对 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的影响 | 第45-63页 |
| ·MPCVD 法制备金刚石膜过程中“尖端放电”现象的研究 | 第45-51页 |
| ·“尖端放电”现象 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·加装金属钽环对 MPCVD 法制备金刚石膜均匀性的影响 | 第51-63页 |
| ·加装金属钽环 | 第51-52页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·实验结果与讨论 | 第53-60页 |
| ·金属钽环直径等于衬底硅片直径情况下的实验结果与讨论 | 第60-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-75页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
