| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·钨酸钙材料概述 | 第10-14页 |
| ·钨酸钙的结构与性质 | 第10-11页 |
| ·掺杂稀土离子的钨酸钙荧光粉 | 第11-12页 |
| ·掺杂稀土离子的钨酸钙薄膜 | 第12-14页 |
| 1. 2 CaWO_4:Eu~(3+)的基本理论与研究进展 | 第14-16页 |
| ·CaWO_4:Eu~(3+)的能量传输与发光 | 第14-15页 |
| ·Eu~(3+)离子的发光特性 | 第15-16页 |
| ·CaWO_4:Eu~(3+)发光材料的研究现状 | 第16页 |
| 1. 3 本文的研究目标与内容 | 第16-18页 |
| ·课题研究目标 | 第16-17页 |
| ·课题研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验方法和表征 | 第18-27页 |
| ·实验材料 | 第18页 |
| ·实验设备及原理 | 第18-20页 |
| ·工艺流程与实验步骤 | 第20-24页 |
| ·实验技术路线 | 第20-21页 |
| ·靶材的制备 | 第21-22页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第22-24页 |
| ·薄膜的热处理 | 第24页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第24-27页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第24页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第24-25页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第25页 |
| ·荧光光谱仪 | 第25-27页 |
| 第三章 CaWO_4:Eu~(3+)陶瓷靶材的制备与性能表征 | 第27-36页 |
| ·烧结温度和保温时间对陶瓷相对密度的影响 | 第27-28页 |
| ·陶瓷的微结构及成分分析 | 第28-32页 |
| ·XRD 分析 | 第28-30页 |
| ·SEM 分析 | 第30-31页 |
| ·微区成分分析 | 第31-32页 |
| ·Ca_(0.64)WO_4:Eu_(0.24)陶瓷的发光性能 | 第32-35页 |
| ·在 254 nm 光激发下的发光性能 | 第32-34页 |
| ·蓝光 LED 激发下的发光性能 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 热处理对 CaWO_4:Eu~(3+)薄膜结构及发光性能的影响 | 第36-43页 |
| ·CaWO_4:Eu~(3+)薄膜的热处理工艺 | 第36-37页 |
| ·热处理对 CaWO_4:Eu~(3+)薄膜性能的影响 | 第37-42页 |
| ·薄膜的 XRD 分析 | 第37-38页 |
| ·表面形貌(SEM) | 第38-40页 |
| ·薄膜的光致发光性能 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 溅射参数对制备 CaWO_4:Eu~(3+)薄膜的影响 | 第43-65页 |
| ·正交试验设计 | 第43页 |
| ·正交实验分析 | 第43-46页 |
| ·溅射气压对 CaWO_4:Eu~(3+)薄膜红光发射强度的影响 | 第46-51页 |
| ·XDR 谱及分析 | 第48-49页 |
| ·荧光光谱及分析 | 第49-51页 |
| ·溅射时间对 CaWO_4:Eu~(3+)薄膜红光发射强度的影响 | 第51-58页 |
| ·XRD 谱及分析 | 第53-54页 |
| ·表面形貌(SEM) | 第54-56页 |
| ·荧光光谱及分析 | 第56-58页 |
| ·不同掺杂浓度薄膜的性能表征 | 第58-63页 |
| ·荧光光谱及分析 | 第58-59页 |
| ·XRD 分析 | 第59-60页 |
| ·表面形貌(SEM) | 第60-61页 |
| ·XPS 分析 | 第61-63页 |
| ·Ca_(0.64)WO_4:Eu_(0.24)靶材及其薄膜的荧光光谱分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第71-72页 |
