| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·多波长 DFB 激光器阵列的研究背景 | 第9-10页 |
| ·多波长 DFB 激光器阵列的发展现状和趋势 | 第10-15页 |
| ·本论文的研究内容以及创新点和实用性 | 第15-17页 |
| 第2章 半导体激光器的理论研究 | 第17-27页 |
| ·半导体激光器的相关理论 | 第17-22页 |
| ·半导体激光器的工作原理与结构 | 第17-19页 |
| ·半导体激光器的输出特性 | 第19-22页 |
| ·DFB 半导体激光器 | 第22-27页 |
| ·布拉格光栅 | 第23-25页 |
| ·周期性波导中的耦合波理论 | 第25-27页 |
| 第3章 多波长 DFB 激光器阵列芯片制作工艺介绍 | 第27-39页 |
| ·半导体激光器芯片制作工艺的介绍 | 第27-34页 |
| ·金属有机化合物化学气相沉淀 | 第27-28页 |
| ·光刻工艺 | 第28-29页 |
| ·刻蚀工艺 | 第29-31页 |
| ·纳米压印制作光栅工艺 | 第31-34页 |
| ·基于软模版的紫外纳米压印光栅工艺 | 第34-35页 |
| ·DFB 半导体激光器阵列芯片制作工艺流程 | 第35-39页 |
| 第4章 量子阱混杂的原理与实验研究 | 第39-54页 |
| ·量子阱混杂的原理 | 第39-44页 |
| ·量子阱及其特征 | 第39-41页 |
| ·带隙波长蓝移 | 第41-44页 |
| ·量子阱混杂常用技术 | 第44-47页 |
| ·无杂质空位扩散 | 第44-45页 |
| ·离子诱导扩散 | 第45-46页 |
| ·光吸收诱导扩散 | 第46页 |
| ·等离子体诱导量子阱混杂 | 第46-47页 |
| ·量子阱混杂的工艺介绍 | 第47-48页 |
| ·量子阱混杂的实验与讨论 | 第48-54页 |
| ·实验过程 | 第48-50页 |
| ·实验结果与讨论 | 第50-54页 |
| 第5章 多波长 DFB 激光器阵列的光波长锁定 | 第54-61页 |
| ·光波长锁定的原理与方法 | 第54-58页 |
| ·使用原子或分子吸收谱线稳定波长 | 第54-55页 |
| ·外腔光反馈实现波长锁定 | 第55-56页 |
| ·内腔稳定波长 | 第56页 |
| ·基于相位光栅和 FP 窄带滤光片的实现波长稳定 | 第56-57页 |
| ·标准具稳定波长 | 第57-58页 |
| ·光波长锁定方案 | 第58页 |
| ·DFB 激光器阵列测试 | 第58-61页 |
| 第6章 总结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |