| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| ·铁电材料及铁电薄膜 | 第8-13页 |
| ·铁电材料概述 | 第8-12页 |
| ·铁电薄膜的应用及发展 | 第12-13页 |
| ·铁电薄膜制备方法简述 | 第13-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积法 | 第15页 |
| ·多靶反应溅射法 | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16-17页 |
| ·大面积铁电薄膜的研究意义 | 第17页 |
| ·大面积铁电薄膜的研究进展 | 第17-20页 |
| ·论文的主要工作及意义 | 第20-22页 |
| 第2章 5 英寸Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_30_(12)铁电薄膜均匀生长基础理论的研究 | 第22-30页 |
| ·PLD-5000 大面积薄膜沉积系统介绍 | 第22-25页 |
| ·羽辉沉积轨迹的描述及计算 | 第25-26页 |
| ·羽辉沉积轨迹的模拟 | 第26-27页 |
| ·不同羽辉沉积半径对薄膜厚度分布的补偿 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第3章 5 英寸均匀Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_30_(12)铁电薄膜的制备 | 第30-43页 |
| ·5 英寸Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_30_(12) 铁电薄膜制备流程 | 第30-31页 |
| ·薄膜厚度测试及均匀性分析原理 | 第31-34页 |
| ·羽辉沉积半径的测量 | 第34-35页 |
| ·薄膜厚度均匀性分析实验 | 第35-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第4章 Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_30_(12)铁电薄膜微观结构及性能表征 | 第43-54页 |
| ·薄膜微观结构表征 | 第43-48页 |
| ·薄膜光学参数测试 | 第48-51页 |
| ·薄膜电学性能测试 | 第51-53页 |
| ·测试样品的制备 | 第51页 |
| ·P-V 特性 | 第51-52页 |
| ·I-V 特性 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第5章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读硕士期间的论文发表情况 | 第61页 |
