| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 电子束曝光技术及其应用 | 第13-53页 |
| ·电子束曝光的原理及背景 | 第13-28页 |
| ·电子束光学原理 | 第14-17页 |
| ·电子束曝光机的基本构造 | 第17-19页 |
| ·电子束和光刻胶的相互作用 | 第19-21页 |
| ·电子束图形设计方法和对准原理 | 第21-23页 |
| ·电子束光刻胶 | 第23-26页 |
| ·决定电子束曝光性能的因素及改善方法 | 第26-28页 |
| ·传统微纳加工方法和电子束曝光的联合使用方法 | 第28-40页 |
| ·电子束曝光和沉积技术的结合 | 第28-30页 |
| ·电子束曝光和纳米印刷术的结合 | 第30-35页 |
| ·电子束曝光和扫描探针术的结合 | 第35-40页 |
| ·本论文的研究目的和主要内容 | 第40-43页 |
| 参考文献 | 第43-53页 |
| 第二章 基于过曝光PMMA负胶掩膜的极细纳米结构及石墨烯条带FET的带备 | 第53-89页 |
| ·基于过曝光PMMA负胶掩膜的极细纳米结构的制备 | 第53-60页 |
| ·背景及意义 | 第53-56页 |
| ·可剪裁负胶掩膜技术概述 | 第56-57页 |
| ·可剪裁负胶模板技术制备的极细金属纳米线及其表征 | 第57-59页 |
| ·可剪裁负胶掩膜技术在绝缘衬底上的应用 | 第59-60页 |
| ·磁性氧化物纳米线条的制备和性能研究 | 第60-66页 |
| ·磁性氧化物纳米线的研究背景 | 第60-61页 |
| ·磁性氧化物纳米线条的制备及输运行为 | 第61-64页 |
| ·基于磁性氧化物和石墨烯的电子自旋器件的设计和制备 | 第64-66页 |
| ·石墨烯窄条带FET的制备 | 第66-76页 |
| ·机械剥离方法制备大尺寸单层石墨烯 | 第66-67页 |
| ·石墨烯场效应晶体管(FET)器件的制备和性能 | 第67-69页 |
| ·极细石墨烯纳米条带的制备和表征 | 第69-73页 |
| ·PMMA掩膜作为顶栅的石墨烯器件的输运研究 | 第73-76页 |
| ·过曝光PMMA负胶掩膜的性能研究 | 第76-84页 |
| ·PMMA过曝光的结构示意图 | 第76-78页 |
| ·不同条件过曝光情况下PMMA负胶的形貌表征 | 第78-82页 |
| ·不同过曝光情况下PMMA厚度的表征 | 第82-83页 |
| ·不同过曝光情况下PMMA的拉曼光谱表征 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 第三章 若干非平面微纳结构的设计与制备研究 | 第89-119页 |
| ·PMMA软掩膜制备非平面纳米结构 | 第89-101页 |
| ·非平面纳米结构的研究背景和意义 | 第89-93页 |
| ·非平面软掩模印刷术原理 | 第93-95页 |
| ·软模板印刷术在不同非平整衬底上的应用 | 第95-98页 |
| ·软模板印刷术的分辨率 | 第98-100页 |
| ·软掩模板的重复使用 | 第100-101页 |
| ·柔性材料复合物表面褶皱的制备与调控 | 第101-105页 |
| ·柔性材料研究背景 | 第101页 |
| ·柔性材料复合物的温度响应研究 | 第101-102页 |
| ·基于柔性材料复合物的褶皱石墨烯的制备和表征 | 第102-103页 |
| ·柔性材料复合物表面形态的调控 | 第103-104页 |
| ·柔性材料复合物的表面形态的可恢复性研究 | 第104-105页 |
| ·波浪形和空气桥型复杂微纳结构的制备 | 第105-113页 |
| ·工作背景和意义 | 第105-106页 |
| ·波浪形微纳结构的制备 | 第106-111页 |
| ·空气桥型三维微纳结构的制备 | 第111-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-119页 |
| 第四章 表面等离激元金属阵列的制备技术研究 | 第119-141页 |
| ·引言 | 第119-120页 |
| ·过曝光PMMA负胶掩膜技术制备金属棒阵列 | 第120-122页 |
| ·模板剥裂法制备表面平整的等离激元金属结构 | 第122-124页 |
| ·PMMA水解转移印刷法制备平整表面金属等离激元结构 | 第124-127页 |
| ·微间隔蜡纸印刷术制备金属阵列 | 第127-132页 |
| ·蜡纸印刷术概述 | 第127-129页 |
| ·微间隔蜡纸印刷术的主要步骤 | 第129-132页 |
| ·金属阵列的红外等离激元共振特性 | 第132-136页 |
| ·本章小结 | 第136-137页 |
| 参考文献 | 第137-141页 |
| 致谢 | 第141-143页 |
| 在读期间发表和准备发表的学术论文 | 第143-144页 |
| 在读期间已获授权的发明专利 | 第144页 |
