| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| ·选题背景、研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| ·选题背景 | 第11页 |
| ·研究目的 | 第11页 |
| ·研究意义 | 第11-12页 |
| ·镁合金国内外研究现状 | 第12-22页 |
| ·镁合金的现状 | 第12-17页 |
| ·磁控溅射技术 | 第17-20页 |
| ·Ta 及 Ta 膜的研究 | 第20-22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-23页 |
| 2 实验材料与方法 | 第23-29页 |
| ·实验材料 | 第23-26页 |
| ·实验基体材料 | 第23页 |
| ·试样制备 | 第23-24页 |
| ·实验设备 | 第24页 |
| ·射频溅射清洗工艺 | 第24-25页 |
| ·Ta 膜和 Ta(N)/Ti-Si 多层膜制备工艺 | 第25-26页 |
| ·结构分析与性能测试方法 | 第26-29页 |
| ·结构分析方法 | 第26-27页 |
| ·性能测试方法 | 第27-29页 |
| 3 直流磁控溅射制备 Ta 膜及其性能分析 | 第29-45页 |
| ·Ta 膜表面 SEM 形貌观察及能谱分析 | 第29-31页 |
| ·Ta 膜表面 SEM 形貌观察 | 第29-31页 |
| ·Ta 膜能谱分析 | 第31页 |
| ·Ta 膜断面 SEM 形貌观察及沉积速率分析 | 第31-34页 |
| ·Ta 膜断面 SEM 形貌观察 | 第31-33页 |
| ·沉积速率分析 | 第33-34页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜相结构的影响 | 第34-35页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜纳米硬度的影响 | 第35-37页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜耐磨性的影响 | 第37-39页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜结合力的影响 | 第39-41页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜耐蚀性的影响 | 第41-43页 |
| ·讨论 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 高功率脉冲磁控溅射制备 Ta 膜及其性能分析 | 第45-62页 |
| ·Ta 膜表面 SEM 形貌观察及能谱分析 | 第45-47页 |
| ·Ta 膜 SEM 表面形貌观察 | 第45-46页 |
| ·能谱分析 | 第46-47页 |
| ·Ta 膜截面形貌观察及沉积速率分析 | 第47-50页 |
| ·Ta 膜截面形貌观察 | 第47-49页 |
| ·沉积速率分析 | 第49-50页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜相结构的影响 | 第50-51页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜纳米硬度的影响 | 第51-53页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜耐磨性的影响 | 第53-55页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜结合力的影响 | 第55-57页 |
| ·工艺参数对 Ta 膜耐蚀性的影响 | 第57-59页 |
| ·讨论 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 5 高功率脉冲磁控溅射制备多层膜及性能分析 | 第62-83页 |
| ·多层膜表面 SEM 形貌观察及能谱分析 | 第62-64页 |
| ·多层膜表面 SEM 形貌观察 | 第62-64页 |
| ·多层膜能谱分析 | 第64页 |
| ·多层膜截面形貌观察及沉积速率分析 | 第64-69页 |
| ·多层膜截面形貌观察 | 第64-66页 |
| ·沉积速率分析 | 第66-69页 |
| ·多层膜表面 AFM 形貌观察及粗糙度分析 | 第69-71页 |
| ·多层膜表面 AFM 形貌观察 | 第69-71页 |
| ·粗糙度分析 | 第71页 |
| ·脉冲偏压对多层膜相结构的影响 | 第71-73页 |
| ·脉冲偏压对多层膜纳米硬度的影响 | 第73-75页 |
| ·脉冲偏压对多层膜耐磨性的影响 | 第75-77页 |
| ·脉冲偏压对多层膜耐蚀性的影响 | 第77-80页 |
| ·讨论 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 6 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 在读期间发表的论文 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89页 |