| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·研究背景 | 第11-13页 |
| ·多种太阳能电池减反射膜以及多孔硅减反射膜的研究现状 | 第13-16页 |
| ·多孔硅的微观结构 | 第16-17页 |
| ·多孔硅的减反特性 | 第17-19页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第19-22页 |
| ·电化学腐蚀法 | 第19-21页 |
| ·化学腐蚀法 | 第21页 |
| ·火花腐蚀法 | 第21-22页 |
| ·水热腐蚀法 | 第22页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第22-23页 |
| ·耗尽层和场强化模型 | 第22-23页 |
| ·载流子扩散模型 | 第23页 |
| ·量子限制模型 | 第23页 |
| ·课题研究内容及目标 | 第23-25页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| ·研究目标 | 第24-25页 |
| 第2章 实验方法 | 第25-29页 |
| ·实验材料及仪器设备 | 第25-26页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·仪器设备 | 第26页 |
| ·多孔硅的制备工艺 | 第26-28页 |
| ·硅片的预处理 | 第26-27页 |
| ·多孔硅的制备 | 第27页 |
| ·多孔硅的清洗、干燥和保存 | 第27-28页 |
| ·多孔硅的测试表征 | 第28-29页 |
| ·表面形貌测试 | 第28页 |
| ·反射率测试 | 第28页 |
| ·电化学测试 | 第28-29页 |
| 第3章 n 型单晶硅上多孔硅的制备研究 | 第29-46页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·不同制备方法对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第29-31页 |
| ·不同电解液体系对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第31-36页 |
| ·C_2H_5OH 对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第31-32页 |
| ·H2O2对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第32-34页 |
| ·HNO3对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第34-36页 |
| ·电流密度对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第36-39页 |
| ·表面形貌 | 第36-37页 |
| ·孔隙率 | 第37-38页 |
| ·反射率 | 第38-39页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第39-44页 |
| ·横截面形貌 | 第39-41页 |
| ·孔隙率 | 第41-42页 |
| ·反射率 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 p 型单晶硅上多孔硅的制备研究 | 第46-60页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·不同制备方法对多孔硅微观结构与反射率的影响 | 第46-48页 |
| ·不同电解液体系对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第48-51页 |
| ·C_2H_5OH 对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第48-49页 |
| ·HNO3对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第49-51页 |
| ·电流密度对多孔硅微观结构与反射率的影响 | 第51-55页 |
| ·横截面形貌 | 第51-53页 |
| ·孔隙率 | 第53页 |
| ·反射率 | 第53-55页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅微观结构与反射率的影响 | 第55-58页 |
| ·表面形貌 | 第55-56页 |
| ·孔隙率 | 第56-57页 |
| ·反射率 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 p 型多晶硅上多孔硅的制备研究 | 第60-75页 |
| ·前言 | 第60页 |
| ·不同制备方法对多孔硅微观结构与反射率的影响 | 第60-62页 |
| ·不同电解液体系对多孔硅微观结构与反射率的影响 | 第62-64页 |
| ·电流密度对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第64-67页 |
| ·表面形貌 | 第64-65页 |
| ·孔隙率 | 第65页 |
| ·反射率 | 第65-67页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅的微观结构与反射率的影响 | 第67-70页 |
| ·表面形貌 | 第67-68页 |
| ·孔隙率 | 第68页 |
| ·反射率 | 第68-70页 |
| ·在 HF/H2O/C_2H_5OH 体系中制备多孔硅的条件优化 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第6章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
