| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-10页 |
| ·概述 | 第6页 |
| ·多晶硅生产工艺概况 | 第6-8页 |
| ·多晶硅生产工艺比较 | 第8-9页 |
| ·本论文的工作内容 | 第9-10页 |
| 第二章 多晶硅还原工艺设计要点分析 | 第10-38页 |
| ·多晶硅还原工艺概况 | 第10-12页 |
| ·三氯氢硅汽化及控制方案 | 第12-20页 |
| ·沉积反应控制 | 第20-30页 |
| ·主要设备选型 | 第30-38页 |
| 第三章 冷却系统及能量综合利用 | 第38-48页 |
| ·炉体冷却系统 | 第38-40页 |
| ·底盘冷却系统 | 第40-42页 |
| ·电极冷却系统以及调功冷却水系统 | 第42页 |
| ·能量综合利用 | 第42-48页 |
| 第四章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |