太赫兹无机吸光材料的制备与特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·太赫兹技术的背景与发展 | 第11-14页 |
| ·本课题在国内外的研究现状 | 第14-17页 |
| ·太赫兹的主流辐射源与测试方式 | 第14-15页 |
| ·非制冷太赫兹探测器研究现状及研究依据 | 第15-17页 |
| ·纳米金属薄膜的特性 | 第17-18页 |
| ·论文的主要内容和研究目标 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜制备及分析方法 | 第19-28页 |
| ·薄膜制备方法 | 第19-21页 |
| ·热蒸发法 | 第19页 |
| ·离子束溅射法 | 第19-20页 |
| ·电子束蒸发法 | 第20-21页 |
| ·电子束蒸发制备薄膜流程及成膜原理 | 第21-24页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第21-22页 |
| ·电子束蒸发设备操作流程 | 第22页 |
| ·电子束蒸发成膜原理 | 第22-24页 |
| ·薄膜结构表征及物性测量方法 | 第24-28页 |
| ·扫描电镜分析方法 | 第24页 |
| ·X 射线衍射分析方法 | 第24-25页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第25-26页 |
| ·薄膜的电学特性表征方法 | 第26-27页 |
| ·傅里叶透射红外光谱仪 | 第27-28页 |
| 第三章 TiO_x薄膜的制备及表征测试 | 第28-41页 |
| ·TiO_2的主要特性与分类 | 第28-29页 |
| ·TiO_x薄膜制备方案 | 第29-30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-40页 |
| ·TiO_x薄膜扫描电镜分析 | 第30-33页 |
| ·TiO_x薄膜晶态表征 | 第33-36页 |
| ·TiO_x薄膜的紫外-可见光测量 | 第36-39页 |
| ·TiO_x薄膜的远红外测量 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 钛薄膜的制备及表征测试 | 第41-59页 |
| ·钛的主要物化特性 | 第41页 |
| ·钛薄膜的制备方案 | 第41-42页 |
| ·实验结果与讨论 | 第42-57页 |
| ·钛薄膜的扫描电镜分析 | 第42-45页 |
| ·钛薄膜的晶态表征 | 第45-49页 |
| ·钛薄膜的电学性能 | 第49-52页 |
| ·钛薄膜的紫外-可见光测量 | 第52-54页 |
| ·钛薄膜的中红外测量 | 第54-56页 |
| ·钛薄膜的远红外测量 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 复合多层薄膜的制备及表征测试 | 第59-71页 |
| ·复合多层薄膜特性 | 第59页 |
| ·复合多层薄膜制备方案 | 第59-60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-69页 |
| ·复合多层薄膜的扫描电镜分析 | 第60-63页 |
| ·复合多层薄膜的中红外测量与分析 | 第63-65页 |
| ·复合多层薄膜的远红外测量与分析 | 第65-68页 |
| ·复合多层薄膜的中红外积分球测量与分析 | 第68-69页 |
| ·复合多层薄膜对中红外的反射率研究 | 第69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-74页 |
| ·总结 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第78-79页 |
