| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-21页 |
| ·研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统概述 | 第13-16页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统相图分析 | 第13-14页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统熔体结构 | 第14-15页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统熔体各向异性 | 第15-16页 |
| ·高温热台在材料研究领域的应用 | 第16-19页 |
| ·晶体熔融与生长过程 | 第17页 |
| ·材料相变过程 | 第17-18页 |
| ·材料组成和微观结构 | 第18页 |
| ·材料烧结过程 | 第18-19页 |
| ·熔体分相理论 | 第19-21页 |
| 2 实验设备、原料及分析测试仪器 | 第21-25页 |
| ·高温热台显微镜 | 第21-22页 |
| ·其它试验设备 | 第22-23页 |
| ·实验原料 | 第23页 |
| ·实验分析检测设备 | 第23页 |
| ·X 射线分析 | 第23页 |
| ·扫描电镜分析 | 第23页 |
| ·红外光谱分析仪 | 第23页 |
| ·显微镜图像定标及测量软件 | 第23-25页 |
| 3 Bi_2O_3-SiO_2系统多晶粉体制备及表征 | 第25-31页 |
| ·Bi_2O_3-SiO_2系统升温 DSC-TG 分析 | 第25页 |
| ·Bi_(12)SiO_(20)多晶粉体的制备与表征 | 第25-26页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)多晶粉体的制备与表征 | 第26-28页 |
| ·Bi_2SiO_5多晶粉体的制备与表征 | 第28-30页 |
| ·本章小节 | 第30-31页 |
| 4 Bi_(12)SiO_(20)多晶粉体熔融和冷却过程的实时观察 | 第31-53页 |
| ·Bi_(12)SiO_(20)多晶粉体在熔融过程中的各向异性\可逆分相 | 第32-37页 |
| ·各向异性\可逆分相过程的机理分析 | 第35-36页 |
| ·高温实时观察法对于 Bi_2O_3-SiO_2相图研究的意义 | 第36-37页 |
| ·6Bi_2O_3·SiO_2熔体的冷却析晶过程 | 第37-45页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶析出及生长过程分析 | 第37-40页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶的生长机制及微观结构分析 | 第40-45页 |
| ·Bi_4Si_3O_(12)枝晶的熔化过程 | 第45-47页 |
| ·6Bi_2O_3·SiO_2熔体对 Bi_4Si_3O_(12)枝晶形貌的纪录 | 第46-47页 |
| ·6Bi_2O_3·SiO_2熔体冷却过程中 SiO_2晶体的析出 | 第47-51页 |
| ·石英单晶颗粒在 6Bi_2O_3·SiO_2熔体中的析出机理及意义 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5 铋硅系统光谱分析 | 第53-61页 |
| ·温度对 Bi_2O_3-SiO_2系统熔体结构的影响 | 第54-57页 |
| ·成分对 Bi_2O_3-SiO_2系统熔体结构的影响 | 第57-59页 |
| ·粘度突变温度区间内的熔体结构 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 6 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第70-71页 |
