摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-42页 |
·前言 | 第10-11页 |
·半导体光电化学理论基础 | 第11-19页 |
·半导体光电化学基本公式 | 第19-22页 |
·关于效率的计算公式 | 第19-22页 |
·从Mott-Schottky等式计算出的平带电势和掺杂浓度 | 第22页 |
·半导体带隙计算公式 | 第22页 |
·Fe_2O_3光电极材料研究进展及目标 | 第22-34页 |
·提高Fe_2O_3导电性 | 第24-27页 |
·增加Fe_2O_3空穴扩散长度 | 第27-31页 |
·降低Fe_2O_3过电势 | 第31-34页 |
·本文的研究思路和研究内容 | 第34页 |
·本文的创新之处 | 第34-36页 |
本章参考文献 | 第36-42页 |
第二章 实验部分 | 第42-46页 |
·主要试验用品 | 第42页 |
·物性表征 | 第42-43页 |
·X射线衍射(XRD) | 第42页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第42-43页 |
·光电子能谱(XPS) | 第43页 |
·紫外可见吸收光谱(UV-vis) | 第43页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第43页 |
·光电化学性质 | 第43-45页 |
·循环伏安(J-V) | 第43-44页 |
·计时安培(J-t) | 第44页 |
·量子效率(IPCE) | 第44页 |
·Mott-Schottky | 第44-45页 |
·荧光光谱(PL) | 第45页 |
·超声喷雾热解装置 | 第45-46页 |
第三章 超声喷雾热解制备Fe_2O_3光电极薄膜工艺研究 | 第46-60页 |
·引言 | 第46页 |
·工艺参数的优化 | 第46-51页 |
·衬底温度对光电流的影响 | 第46-48页 |
·喷口与衬底间距离对光电流的影响 | 第48-49页 |
·前驱液量对光电流的影响 | 第49-50页 |
·测量位置对光电流的影响 | 第50-51页 |
·Fe_2O_3薄膜物性及光电化学性能 | 第51-58页 |
·XRD谱 | 第51-52页 |
·Raman谱 | 第52-53页 |
·透射光谱 | 第53-54页 |
·电流-电势曲线 | 第54-55页 |
·IPCE曲线 | 第55-57页 |
·Mott-Schottky曲线 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
本章参考文献 | 第59-60页 |
第四章 硅、钛共掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能研究 | 第60-78页 |
·引言 | 第60-61页 |
·硅、钛掺杂浓度对Fe_2O_3薄膜光电流的影响 | 第61-64页 |
·硅掺杂浓度对光电流的影响 | 第61-62页 |
·钛掺杂浓度对光电流的影响 | 第62-63页 |
·硅、钛共掺杂浓度对光电流的影响 | 第63-64页 |
·硅、钛共掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能及物性 | 第64-76页 |
·电流-电势曲线 | 第64-65页 |
·IPCE曲线 | 第65-67页 |
·透射光谱 | 第67-68页 |
·XPS谱 | 第68-70页 |
·Mott-Schottky曲线 | 第70-72页 |
·XRD谱 | 第72-74页 |
·Raman谱 | 第74-75页 |
·SEM | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-77页 |
本章参考文献 | 第77-78页 |
第五章 镁掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能研究 | 第78-90页 |
·引言 | 第78页 |
·结果和讨论 | 第78-84页 |
·对p型Fe_2O_3的进一步思考 | 第84-88页 |
·本章小结 | 第88-89页 |
本章参考文献 | 第89-90页 |
第六章 Fe_2O_3光电极薄膜表面态的钝化 | 第90-100页 |
·引言 | 第90-91页 |
·结果和讨论 | 第91-95页 |
·对表面态的进一步思考 | 第95-98页 |
·本章小结 | 第98-99页 |
本章参考文献 | 第99-100页 |
第七章 半导体光电极空穴传输模型探讨 | 第100-116页 |
·经典空穴传输模型回顾 | 第100-101页 |
·修正的空穴传输模型 | 第101-109页 |
·半导体光电极的正面与反面电流 | 第109-112页 |
·本章小结 | 第112-114页 |
本章参考文献 | 第114-116页 |
第八章 总结与展望 | 第116-118页 |
·主要结论 | 第116页 |
·后续工作及展望 | 第116-118页 |
攻读博士学位期间获得的学术成果及参与的学术活动 | 第118-120页 |
致谢 | 第120-121页 |