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超声喷雾热解制备α-Fe2O3薄膜及其光电化学性质研究

摘要第1-5页
英文摘要第5-10页
第一章 绪论第10-42页
   ·前言第10-11页
   ·半导体光电化学理论基础第11-19页
   ·半导体光电化学基本公式第19-22页
     ·关于效率的计算公式第19-22页
     ·从Mott-Schottky等式计算出的平带电势和掺杂浓度第22页
     ·半导体带隙计算公式第22页
   ·Fe_2O_3光电极材料研究进展及目标第22-34页
     ·提高Fe_2O_3导电性第24-27页
     ·增加Fe_2O_3空穴扩散长度第27-31页
     ·降低Fe_2O_3过电势第31-34页
   ·本文的研究思路和研究内容第34页
   ·本文的创新之处第34-36页
 本章参考文献第36-42页
第二章 实验部分第42-46页
   ·主要试验用品第42页
   ·物性表征第42-43页
     ·X射线衍射(XRD)第42页
     ·拉曼光谱(Raman)第42-43页
     ·光电子能谱(XPS)第43页
     ·紫外可见吸收光谱(UV-vis)第43页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第43页
   ·光电化学性质第43-45页
     ·循环伏安(J-V)第43-44页
     ·计时安培(J-t)第44页
     ·量子效率(IPCE)第44页
     ·Mott-Schottky第44-45页
     ·荧光光谱(PL)第45页
   ·超声喷雾热解装置第45-46页
第三章 超声喷雾热解制备Fe_2O_3光电极薄膜工艺研究第46-60页
   ·引言第46页
   ·工艺参数的优化第46-51页
     ·衬底温度对光电流的影响第46-48页
     ·喷口与衬底间距离对光电流的影响第48-49页
     ·前驱液量对光电流的影响第49-50页
     ·测量位置对光电流的影响第50-51页
   ·Fe_2O_3薄膜物性及光电化学性能第51-58页
     ·XRD谱第51-52页
     ·Raman谱第52-53页
     ·透射光谱第53-54页
     ·电流-电势曲线第54-55页
     ·IPCE曲线第55-57页
     ·Mott-Schottky曲线第57-58页
   ·本章小结第58-59页
 本章参考文献第59-60页
第四章 硅、钛共掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能研究第60-78页
   ·引言第60-61页
   ·硅、钛掺杂浓度对Fe_2O_3薄膜光电流的影响第61-64页
     ·硅掺杂浓度对光电流的影响第61-62页
     ·钛掺杂浓度对光电流的影响第62-63页
     ·硅、钛共掺杂浓度对光电流的影响第63-64页
   ·硅、钛共掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能及物性第64-76页
     ·电流-电势曲线第64-65页
     ·IPCE曲线第65-67页
     ·透射光谱第67-68页
     ·XPS谱第68-70页
     ·Mott-Schottky曲线第70-72页
     ·XRD谱第72-74页
     ·Raman谱第74-75页
     ·SEM第75-76页
   ·本章小结第76-77页
 本章参考文献第77-78页
第五章 镁掺杂Fe_2O_3薄膜光电化学性能研究第78-90页
   ·引言第78页
   ·结果和讨论第78-84页
   ·对p型Fe_2O_3的进一步思考第84-88页
   ·本章小结第88-89页
 本章参考文献第89-90页
第六章 Fe_2O_3光电极薄膜表面态的钝化第90-100页
   ·引言第90-91页
   ·结果和讨论第91-95页
   ·对表面态的进一步思考第95-98页
   ·本章小结第98-99页
 本章参考文献第99-100页
第七章 半导体光电极空穴传输模型探讨第100-116页
   ·经典空穴传输模型回顾第100-101页
   ·修正的空穴传输模型第101-109页
   ·半导体光电极的正面与反面电流第109-112页
   ·本章小结第112-114页
 本章参考文献第114-116页
第八章 总结与展望第116-118页
   ·主要结论第116页
   ·后续工作及展望第116-118页
攻读博士学位期间获得的学术成果及参与的学术活动第118-120页
致谢第120-121页

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