| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·选题背景 | 第8-12页 |
| ·选题的目的及意义 | 第12-13页 |
| ·国内外研究概况 | 第13-22页 |
| ·微弧氧化技术的基本原理 | 第13-15页 |
| ·微弧氧化技术特点 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术发展现状 | 第17-20页 |
| ·微弧氧化技术的应用前景和发展趋势 | 第20-22页 |
| ·本课题的主要研究目的及研究内容 | 第22页 |
| ·试验方案设计 | 第22-24页 |
| 第二章 试验方法及过程 | 第24-30页 |
| ·试验材料 | 第24页 |
| ·基体材料 | 第24页 |
| ·电解液组成 | 第24页 |
| ·试验设备 | 第24-25页 |
| ·试验中所用电解液体系 | 第25-27页 |
| ·试验内容 | 第27-28页 |
| ·陶瓷膜特性测试过程 | 第28-30页 |
| 第三章 试验结果与分析 | 第30-54页 |
| ·NaOH + Na_2SiO_3 + Ce(NO_3)_3 电解液体系中所得陶瓷层的表征 | 第30-35页 |
| ·陶瓷层厚度 | 第30-31页 |
| ·陶瓷层表面形貌 | 第31-32页 |
| ·陶瓷层相组成 | 第32-34页 |
| ·能谱分析 | 第34-35页 |
| ·NaOH + Na_2SiO_3 + La(NO_3)_3 电解液体系中所得陶瓷层表征 | 第35-41页 |
| ·陶瓷层厚度 | 第35-36页 |
| ·陶瓷层表面形貌 | 第36-38页 |
| ·陶瓷层相组成 | 第38-40页 |
| ·能谱分析 | 第40-41页 |
| ·NaOH + Na_2SiO_3+ Ce(SO_4)_2 电解液体系所得陶瓷层表征 | 第41-46页 |
| ·陶瓷层厚度 | 第41-42页 |
| ·陶瓷层表面形貌 | 第42-44页 |
| ·陶瓷层相组成 | 第44-45页 |
| ·能谱分析 | 第45-46页 |
| ·NaOH + Na_2SiO_3 + Ce(SO_4)_2 + Na_5P_3O_(10) 电解液体系所得陶瓷层表征 | 第46-54页 |
| ·陶瓷层厚度 | 第46-48页 |
| ·陶瓷层表面形貌 | 第48-50页 |
| ·陶瓷层相组成 | 第50-52页 |
| ·能谱分析 | 第52-54页 |
| 第四章 微弧氧化过程及膜层生长机理探讨 | 第54-62页 |
| ·等离子体的概念 | 第54-55页 |
| ·微弧氧化膜的击穿原理 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化过程 | 第56-59页 |
| ·电解液中稀土元素在微弧氧化过程中的作用 | 第59-61页 |
| ·电解液中加入Na_5P_3O_(10) 对陶瓷层形成过程的作用 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
| 个人简介 | 第72页 |
