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芦荟多糖的荧光猝灭和电化学法测定及机理研究

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第一章 绪论第9-21页
   ·芦荟多糖第9-12页
     ·芦荟多糖的功能第9页
     ·O—乙酰基含量指标第9页
     ·芦荟多糖的组成和结构第9-10页
     ·芦荟多糖提取第10-11页
     ·芦荟多糖的鉴定第11-12页
     ·芦荟多糖的总含量的测定方法第12页
   ·分子荧光技术第12-16页
     ·荧光第12页
     ·分子的激发与弛豫第12-13页
     ·分子发光的类型第13-14页
     ·荧光的激发光谱和发射光谱第14页
     ·荧光强度与溶液浓度的关系第14-15页
     ·荧光与分子结构的关系第15页
     ·胶束增敏及多元体系第15页
     ·荧光猝灭作用第15-16页
   ·化学修饰电极第16-19页
     ·化学修饰电极的定义第16-17页
     ·研究化学修饰电极的意义第17页
     ·化学修饰电极的制备和类型第17页
     ·固体电极表面的清洁处理第17页
     ·化学修饰电极的制备第17-18页
     ·化学修饰电极在分析化学中的功能第18-19页
   ·课题的目的、意义及研究的内容第19-21页
第二章 芦荟多糖的荧光猝灭测定新方法第21-35页
   ·引言第21页
   ·实验部分第21-24页
     ·仪器和试剂第21-22页
     ·芦荟多糖标准物质的制备第22-23页
     ·样品溶液的准备第23页
     ·分析方法第23页
     ·APS 和AR 的结合作用第23-24页
   ·结果与讨论第24-34页
     ·APS 与AR 分子间弱的相互作用及其光谱特征第24-28页
     ·发色体系的最佳介质第28-29页
     ·AR 浓度的影响第29-30页
     ·ΔF 的稳定性第30-31页
     ·反应温度的影响第31-32页
     ·荧光猝灭法和紫外分光光度法测定的比较第32-33页
     ·共存物质的影响第33-34页
     ·样品的分析第34页
   ·本章小结第34-35页
第三章 多壁碳纳米管修饰玻碳电极伏安法测定芦荟多糖第35-49页
   ·引言第35页
   ·实验部分第35-37页
     ·材料和试剂第35-36页
     ·仪器和设备第36页
     ·电极的准备第36页
     ·真实样品的处理第36页
     ·实验过程第36-37页
   ·结果与讨论第37-48页
     ·紫外吸收光谱第37-38页
     ·APS 存在时AR 的电化学行为第38页
     ·AR 的电化学行为第38-39页
     ·电极修饰膜的光谱特征第39-42页
     ·二阶导数线性扫描伏安法第42页
     ·pH 值的影响第42-43页
     ·AR 浓度的影响第43-44页
     ·反应时间和稳定性第44页
     ·再现性和重复性第44页
     ·干扰实验第44-45页
     ·分析应用第45-46页
     ·结合常数和结合比的测定第46-48页
   ·本章小结第48-49页
第四章 光谱技术研究茜素红与芦荟多糖的相互作用第49-61页
   ·引言第49页
   ·实验部分第49-50页
     ·试剂第49-50页
     ·仪器第50页
     ·分析方法第50页
   ·结果与讨论第50-59页
     ·紫外吸收光谱第50-52页
     ·AR 对 APS 的荧光猝灭第52-54页
     ·热力学参数和结合力的类型第54-55页
     ·结合常数 (K) 和结合位点的结合数(n)第55-56页
     ·从 APS 到 AR 能量转移第56-57页
     ·构象的研究第57-59页
   ·本章小结第59-61页
全文结论第61-63页
致谢第63-65页
参考文献第65-72页
附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文第72页

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