长波红外成像系统复消色差研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题来源及研究的目的和意义 | 第9页 |
| ·国内外在该方向的研究现状及分析 | 第9-16页 |
| ·二级光谱校正方法的研究现状及分析 | 第9-12页 |
| ·折/衍混合消色差系统的发展现状 | 第12-16页 |
| ·论文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 复消色差原理及衍射元件的色散特性 | 第17-26页 |
| ·三片式消二级光谱的原理 | 第17-19页 |
| ·二元光学元件的色散特性 | 第19-25页 |
| ·二元光学透镜的初级像差特性 | 第20-22页 |
| ·二元光学透镜的色散分析 | 第22-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 复消色差光学系统设计及分析 | 第26-45页 |
| ·系统的技术指标 | 第26页 |
| ·传统光学系统的设计 | 第26-31页 |
| ·三分离系统 | 第26-29页 |
| ·两片式系统 | 第29-31页 |
| ·折/衍混合复消色差系统的设计 | 第31-36页 |
| ·折/衍射系统与传统系统的对比分析 | 第36-39页 |
| ·结构的对比分析 | 第36页 |
| ·色差的对比分析 | 第36-39页 |
| ·二元光学工艺参数计算 | 第39-44页 |
| ·二元光学设计参数 | 第39-40页 |
| ·二元光学工艺参数的计算 | 第40-42页 |
| ·具体参数计算 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 环境变化对折/衍混合光学系统的影响 | 第45-53页 |
| ·环境气压对设计的影响 | 第45-48页 |
| ·环境气压对衍/折光学系统的影响 | 第45-46页 |
| ·压力对象面移动的影响 | 第46-48页 |
| ·结果分析 | 第48页 |
| ·环境温度对设计的影响 | 第48-52页 |
| ·温度对衍/折光学系统的影响 | 第49-51页 |
| ·结果分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 二元光学元件的制作及误差分析 | 第53-62页 |
| ·二元光学元件的制作技术 | 第53-56页 |
| ·光刻法 | 第53-54页 |
| ·薄膜沉积法 | 第54-55页 |
| ·激光直接写入法 | 第55页 |
| ·准分子激光加工 | 第55-56页 |
| ·二元光学元件的衍射效率 | 第56-58页 |
| ·加工误差对衍射效率的影响 | 第58-61页 |
| ·对准误差 | 第58-59页 |
| ·线宽误差 | 第59-60页 |
| ·相位深度误差 | 第60-61页 |
| ·衍射效率的估算 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附录 相关程序 | 第66-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
