| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 序 | 第9-14页 |
| 第1章 引言 | 第14-28页 |
| ·课题的背景和意义 | 第14-16页 |
| ·国内外研究现状、最新发展动态及存在问题 | 第16-25页 |
| ·混响室的发展简史和国内外研究现状 | 第16-17页 |
| ·混响室的最新发展动态 | 第17-20页 |
| ·目前在混响室设计、校正和测试中存在的问题 | 第20-21页 |
| ·射频吸波材料的国内外研究现状及最新发展动态 | 第21-22页 |
| ·目前在射频吸波材料的生产、测试和研究中存在的问题 | 第22-23页 |
| ·暗室的国内外研究现状及最新发展状况 | 第23-24页 |
| ·目前在电波暗室设计和建造中存在的问题 | 第24-25页 |
| ·本文的研究内容和目的 | 第25-28页 |
| ·关于混响室的研究内容和目的 | 第25-26页 |
| ·关于射频吸波体的研究内容和目的 | 第26页 |
| ·关于电波暗室的研究内容和目的 | 第26-28页 |
| 第2章 混响室的基本理论 | 第28-47页 |
| ·混响室的基本理论分类 | 第28页 |
| ·规则几何腔体中的电磁理论 | 第28-37页 |
| ·三维矩形腔体(长方体) | 第29-30页 |
| ·上述有源矩形混响室电磁场解析式的意义与局限性 | 第30-31页 |
| ·特殊三棱柱 | 第31-32页 |
| ·圆柱体 | 第32-37页 |
| ·模密度理论 | 第37-41页 |
| ·任意形状、边界分段光滑的腔体V中的模密度 | 第37-38页 |
| ·规则腔体中的模密度 | 第38页 |
| ·由模密度计算公式得到的推论 | 第38-41页 |
| ·混响室的性能指标 | 第41-46页 |
| ·最低可用频率(Lowest Usable Frequency-LUF) | 第41-42页 |
| ·品质因数(Quality Factor-Q) | 第42-43页 |
| ·品质因数带宽 | 第43-45页 |
| ·品质因数带宽内被激励的模数(Mode Number) | 第45页 |
| ·混响室的时间常数τ | 第45-46页 |
| ·小结: | 第46-47页 |
| 第3章 混响室几何外形的研究 | 第47-56页 |
| ·混响室的数值仿真方法研究 | 第47-51页 |
| ·对混响室作全波分析的挑战性及对策 | 第47-48页 |
| ·仿真条件的设置 | 第48-50页 |
| ·利用全波分析来仿真混响室的条件及验证 | 第50-51页 |
| ·三类规则几何腔体的全波仿真分析 | 第51-53页 |
| ·"楔台"——一种特殊"非对称几何外形"的腔体 | 第53-55页 |
| ·楔台腔体中的本征模结构及场均匀性 | 第53-54页 |
| ·契台外形尺寸的优化 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第4章 散射器的研究 | 第56-71页 |
| ·散射器研究和应用历史 | 第56页 |
| ·上述散射器研究中存在的问题 | 第56-57页 |
| ·散射器对于模密度和场均匀性的影响分析 | 第57-61页 |
| ·散射器在楔台腔体的效果研究 | 第61-67页 |
| ·仿真条件 | 第61-62页 |
| ·散射器对于谐振频率的影响 | 第62-63页 |
| ·散射器对标准差的影响 | 第63-64页 |
| ·散射器对场强概率密度分布的影响 | 第64-67页 |
| ·散射器改进低频场均匀性的原因再分析 | 第67-68页 |
| ·散射器工作方式对新型混响方案的启发和展望 | 第68页 |
| ·混响室中机械搅拌器和其他器件对混响室的影响和作用分析 | 第68-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 附绿 A:QRS散射器 | 第70-71页 |
| 第5章 一种改进的快速估计混响室低频段品质因数Q的时域方法 | 第71-86页 |
| ·混响室品质因数Q值频域法测试的缺点 | 第71页 |
| ·改进思路 | 第71-72页 |
| ·测量原理 | 第72-73页 |
| ·数字处理方法 | 第73-75页 |
| ·小波变换 | 第73-74页 |
| ·数据平滑方法 | 第74-75页 |
| ·线性拟合 | 第75页 |
| ·测试系统图 | 第75-77页 |
| ·试验数据及不确定度分析 | 第77-79页 |
| ·试验数据的数字处理结果 | 第79-81页 |
| ·上述时域结果的比较和验证 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 第6章 射频吸波材料的研究 | 第86-106页 |
| ·射频吸波体的评价方法 | 第86页 |
| ·射频吸波体反射率的测量方法 | 第86-88页 |
| ·拱形法(频率范围:通常在1GHz以上) | 第86-87页 |
| ·低频同轴法和扩展波导法 | 第87-88页 |
| ·射频吸波材料电磁参数的测量 | 第88页 |
| ·复介电常数和复磁导率的测量原理和方法。 | 第88-90页 |
| ·含碳类吸波材料的复介电常数举例 | 第89页 |
| ·铁氧体吸波材料的复介电常数举例 | 第89-90页 |
| ·吸波体反射率的数值计算方法 | 第90-105页 |
| ·无限阵列吸波材料的处理与周期边界 | 第90-92页 |
| ·吸波体反射率仿真模型的建立及验证 | 第92-96页 |
| ·含碳类吸波体反射率的优化 | 第96-98页 |
| ·角锥结构对吸波体性能的影响 | 第98-102页 |
| ·空心、空壳状聚氨酯角锥的反射率 | 第102-104页 |
| ·复合吸波体的反射率 | 第104-105页 |
| ·小结: | 第105-106页 |
| 第7章 电波暗室的低频性能研究 | 第106-131页 |
| ·电波暗室的评价指标 | 第106-111页 |
| ·测试面场均匀性(Field Uniformity—FU) | 第106-107页 |
| ·归一化场地衰减(normalized site attenuation-NSA) | 第107-110页 |
| ·场地参考法(Site Reference Method—SRM) | 第110-111页 |
| ·电波暗室的尺寸设计及吸波材料选用参考标准 | 第111-112页 |
| ·电波暗室尺寸设计 | 第111-112页 |
| ·电波暗室尺寸对暗室性能的影响 | 第112页 |
| ·射频吸波材料反射率的选用标准 | 第112页 |
| ·电波暗室低频性能的预测分析技术 | 第112-117页 |
| ·电波暗室的低频预测分析基础 | 第113-116页 |
| ·电波暗室的全波分析方法 | 第116-117页 |
| ·电波暗室低频段测试面场均匀性(FU)的全波分析 | 第117-123页 |
| ·按照标准方法仿真低频段的FU | 第117-121页 |
| ·近距离观察电波暗室的场均匀性 | 第121-123页 |
| ·半电波暗室低频段NSA的全波分析 | 第123-130页 |
| ·半电波暗室NSA的仿真步骤 | 第123-124页 |
| ·侧墙(长面墙)上的吸波体对半电波暗室NSA的影响 | 第124-125页 |
| ·端墙(短面墙)上的吸波体对半电波暗室NSA的影响 | 第125-130页 |
| ·小结 | 第130页 |
| ·展望 | 第130-131页 |
| 第8章 结论与展望 | 第131-133页 |
| 展望 | 第133-134页 |
| 参考文献 | 第134-142页 |
| 作者简历 | 第142-144页 |
| 学位论文数据集 | 第144页 |
