| 致谢 | 第1-8页 |
| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 序 | 第12-16页 |
| 1 绪论 | 第16-30页 |
| ·研究工作的目的、范围 | 第16-17页 |
| ·研究方法和实验设计 | 第17页 |
| ·预期结果 | 第17页 |
| ·磁性流体密封技术的国内外研究现状 | 第17-30页 |
| ·磁性流体的性质 | 第17-21页 |
| ·磁性流体应用于密封 | 第21-23页 |
| ·磁性流体密封理论方面的研究 | 第23-27页 |
| ·磁性流体密封实验方面的研究 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 2 单晶硅炉用磁性流体密封件的设计 | 第30-38页 |
| ·选取极齿的结构型式 | 第30-31页 |
| ·永久磁铁的确定 | 第31-32页 |
| ·永久磁铁材料的选择 | 第31页 |
| ·永久磁铁尺寸的确定 | 第31-32页 |
| ·轴承的选择 | 第32页 |
| ·装配件与零部件的设计 | 第32-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 3 利用磁路原理计算密封间隙处的磁场强度 | 第38-44页 |
| ·磁路原理 | 第38页 |
| ·磁路计算 | 第38-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 4 实验台的改进设计与耐压测试实验 | 第44-56页 |
| ·实验台的改进设计 | 第44-52页 |
| ·过渡接盘的改进 | 第45-46页 |
| ·实验用测试芯轴及定位法兰的改进 | 第46-52页 |
| ·小结 | 第52页 |
| ·密封件耐压能力的测试实验 | 第52-56页 |
| ·实验 | 第52页 |
| ·实验结果分析 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 5 拼接永磁体的磁场分布及密封间隙处的磁场强度 | 第56-78页 |
| ·利用磁荷法分析拼接永磁体的磁场分布 | 第57-65页 |
| ·磁荷观点 | 第57-60页 |
| ·用等效磁荷法计算带缺口拼接永磁体的磁场 | 第60-65页 |
| ·利用磁路原理分析使用拼接永磁体的密封件密封间隙处的磁场强度 | 第65-68页 |
| ·测量使用拼接永磁体的密封件密封间隙处的磁场强度 | 第68-78页 |
| ·实验装置的设计 | 第68-72页 |
| ·实验 | 第72-76页 |
| ·小结 | 第76-78页 |
| 6 结论 | 第78-82页 |
| ·实验台的建设与实验研究方面 | 第78页 |
| ·理论研究方面 | 第78-79页 |
| ·有待继续研究与改进的问题 | 第79-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 作者简历 | 第86-90页 |
| 学位论文数据集 | 第90页 |