| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·V_2O_5正极材料的研究进展 | 第12-14页 |
| ·V_2O_5及其薄膜的其它应用 | 第14-15页 |
| ·本文的研究设想 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 理论计算和实验方法 | 第19-29页 |
| ·第一性原理的计算模拟方法 | 第19-22页 |
| ·密度泛函理论 | 第19-21页 |
| ·计算模拟方法 | 第21-22页 |
| ·V_2O_5薄膜的生长方法 | 第22-23页 |
| ·V_2O_5薄膜的表征方法 | 第23-26页 |
| 参考文献 | 第26-29页 |
| 第三章 Li嵌入对V_2O_5电子结构的影响 | 第29-49页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·Li_xV_2O_5的电子结构(x=0.5,1) | 第30-43页 |
| ·α-V_2O_5的晶体结构 | 第30-31页 |
| ·α-V_2O_5的电子结构 | 第31-33页 |
| ·嵌入一个Li对V_2O_5电子结构的影响(Li_(0.5)V_2O_5) | 第33-39页 |
| ·LiV_2O_5的电子结构 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 第四章 氧空位对V_2O_5光电性质的影响 | 第49-65页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·PVD法制备V_2O_5薄膜及表征 | 第50-52页 |
| ·样品的制备 | 第50页 |
| ·样品的XPS和UPS测试 | 第50-52页 |
| ·射频磁控溅射法制备V_2O_5薄膜及表征 | 第52-57页 |
| ·样品的制备 | 第52-54页 |
| ·样品的测试 | 第54-57页 |
| ·理论计算与分析 | 第57-62页 |
| ·模型的建立 | 第57-58页 |
| ·V_2O_(5-x)的电子结构 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 总结与展望 | 第65-67页 |
| 附录 硕士期间发表和完成的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |