| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-37页 |
| ·浮法玻璃工艺的发展现状 | 第13-14页 |
| ·浮法玻璃成形工艺的特点与特征缺陷的产生 | 第14-16页 |
| ·浮法玻璃工艺的成形方法 | 第14-15页 |
| ·浮法玻璃成形工艺的特点 | 第15-16页 |
| ·浮法玻璃工艺带来的外观特征缺陷 | 第16页 |
| ·浮法玻璃表面渗锡的研究 | 第16-18页 |
| ·浮法玻璃表面渗锡的产生及影响 | 第16-17页 |
| ·浮法玻璃表面渗锡研究概况 | 第17-18页 |
| ·钢化虹彩的研究 | 第18-20页 |
| ·钢化虹彩的产生机理 | 第18页 |
| ·钢化虹彩与渗锡的关系 | 第18-19页 |
| ·钢化虹彩的影响及解决途径 | 第19-20页 |
| ·锡离子在浮法玻璃中的扩散行为及其赋存状态研究 | 第20-23页 |
| ·玻璃表面电磁屏蔽功能性的要求 | 第23-34页 |
| ·电磁屏蔽问题的提出及电磁屏蔽原理 | 第23-24页 |
| ·电磁屏蔽的种类 | 第24-26页 |
| ·电磁屏蔽材料的国内外现状 | 第26-29页 |
| ·电磁屏蔽玻璃 | 第29-32页 |
| ·电气石材料概述 | 第32-34页 |
| ·本论文研究目的、内容及工作设想 | 第34-37页 |
| 第2章 锡元素在浮法玻璃中的状态及表征 | 第37-53页 |
| ·浮法玻璃非均匀渗锡层的X 射线荧光光谱测试研究 | 第37-41页 |
| ·试验方法的选取 | 第37-39页 |
| ·浮法玻璃下表面渗锡的试验结果分析与讨论 | 第39-41页 |
| ·锡元素在浮法玻璃网络中的存在状态研究 | 第41-46页 |
| ·试验 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-46页 |
| ·浮法玻璃渗锡量的荧光光谱分析方法研究 | 第46-52页 |
| ·试验过程及结果讨论 | 第46-51页 |
| ·Sn 元素分析中PL、XPS 与XRF 的关系 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第3章 锡离子在玻璃网络中行为的计算机数值模拟 | 第53-65页 |
| ·浮法玻璃渗锡机制的理论分析与数值模拟模型建立 | 第53-55页 |
| ·锡元素扩散行为的分子动力学模拟 | 第53页 |
| ·分子动力学模拟的理论基础 | 第53-54页 |
| ·力场 | 第54-55页 |
| ·浮法玻璃中Sn 元素扩散行为的分子动力学模拟 | 第55-57页 |
| ·分子作用位能 | 第55页 |
| ·分子动力学模拟实验的条件选择 | 第55页 |
| ·计算结果与讨论 | 第55-57页 |
| ·用第一性原理研究锡离子与玻璃中其他离子间的交换作用 | 第57-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 SO_2对玻璃渗锡及过渡辊材表面作用机理研究 | 第65-84页 |
| ·SO_2 对玻璃渗锡的作用 | 第65-72页 |
| ·SO_2 处理前后的浮法玻璃下表面的对比分析 | 第65-68页 |
| ·SO_2 对玻璃成形环境的影响及锡槽窗口沉积物的分析 | 第68-72页 |
| ·SO_2 对过渡辊材表面的作用机理 | 第72-81页 |
| ·微区X 射线能谱分析 | 第72-74页 |
| ·热辊表面显微硬度、摩擦系数及表面形貌分析 | 第74-76页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第76-77页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第77-81页 |
| ·浮法玻璃的抗发霉实验 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第5章 电气石纳米化薄膜的制备与性能表征 | 第84-99页 |
| ·ITO 薄膜透明导电玻璃的电磁屏蔽效能特征 | 第84-86页 |
| ·电气石纳米化的薄膜的制备研究与性能表征 | 第86-98页 |
| ·具有自发极化效应的电气石纳米薄膜制备 | 第86-95页 |
| ·原矿电气石与纳米化电气石薄膜的磁效应初步探讨 | 第95-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 结论 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-109页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 作者简介 | 第112页 |
