基于钝化多孔硅的光纤SO2传感技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-24页 |
| ·环境中二氧化硫的来源及其危害 | 第9-11页 |
| ·二氧化硫的来源 | 第9-10页 |
| ·二氧化硫的危害 | 第10-11页 |
| ·环境中二氧化硫监测技术研究现状 | 第11-17页 |
| ·分光光度法 | 第11-13页 |
| ·电学分析法 | 第13-14页 |
| ·离子色谱法 | 第14页 |
| ·光谱分析法 | 第14-15页 |
| ·其他新型检测方法 | 第15-17页 |
| ·多孔硅材料 | 第17-21页 |
| ·多孔硅材料研究现状及应用 | 第17-19页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第19-20页 |
| ·多孔硅的钝化 | 第20-21页 |
| ·光纤传感技术的研究现状 | 第21-23页 |
| ·光纤传感器的工作原理 | 第21页 |
| ·光纤传感器仪器结构 | 第21页 |
| ·光纤传感技术的研究现状及发展方向 | 第21-22页 |
| ·光纤传感器的应用 | 第22-23页 |
| ·光纤气敏传感器 | 第23页 |
| ·论文的研究内容及意义 | 第23-24页 |
| 2 实验 | 第24-33页 |
| ·多孔硅制备 | 第24-26页 |
| ·仪器、试剂及材料 | 第24页 |
| ·多孔硅形成机理 | 第24-25页 |
| ·制备流程及装置图 | 第25-26页 |
| ·多孔硅钝化 | 第26-27页 |
| ·基本原理 | 第26页 |
| ·钝化工艺及装置 | 第26-27页 |
| ·钝化多孔硅的性质 | 第27-28页 |
| ·光致发光 | 第27页 |
| ·表面形貌及组成 | 第27页 |
| ·孔隙率及膜厚 | 第27-28页 |
| ·二氧化硫传感性能 | 第28-33页 |
| ·传感实验装置 | 第28-29页 |
| ·传感过程 | 第29-30页 |
| ·传感性能评价 | 第30-33页 |
| 3 结果与讨论 | 第33-58页 |
| ·多孔硅发光机理 | 第33-35页 |
| ·多孔硅制备条件对其发光性能的影响 | 第35-38页 |
| ·电解液组成 | 第35-36页 |
| ·电流密度 | 第36-37页 |
| ·氧化时间 | 第37-38页 |
| ·多孔硅钝化 | 第38-46页 |
| ·钝化处理溶液组成及配比 | 第38-39页 |
| ·钝化处理前后多孔硅发光比较 | 第39-42页 |
| ·钝化处理前后多孔硅理化性质 | 第42-46页 |
| ·多孔硅钝化前后孔隙率及膜厚的变化 | 第46页 |
| ·钝化多孔硅对SO_2传感性能 | 第46-58页 |
| ·定性分析 | 第47页 |
| ·定量研究 | 第47-49页 |
| ·选择性 | 第49-50页 |
| ·响应时间 | 第50-52页 |
| ·稳定性 | 第52-54页 |
| ·可逆性 | 第54-55页 |
| ·钝化多孔硅荧光猝灭动力学分析 | 第55-56页 |
| ·检出限 | 第56-58页 |
| 4 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 | 第65页 |
