磁光材料的制备和性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-17页 |
| ·磁光存储的研究现状 | 第6-7页 |
| ·磁光存储和读出的基本原理 | 第7-10页 |
| ·磁光记录的存储原理 | 第7-9页 |
| ·磁光记录的读出原理 | 第9页 |
| ·理想的磁光记录材料应具备的基本性能 | 第9-10页 |
| ·磁各向异性 | 第10-13页 |
| ·磁晶各向异性 | 第11页 |
| ·交换各向异性 | 第11-12页 |
| ·表面各向异性 | 第12页 |
| ·形状各向异性 | 第12-13页 |
| ·其他各向异性 | 第13页 |
| ·稀土-过渡族金属磁光记录薄膜研究的进展 | 第13-15页 |
| ·抗腐蚀性研究的进展 | 第13-15页 |
| ·目前存在的问题和本文的研究目标 | 第15-17页 |
| 第二章 样品制备 | 第17-31页 |
| 引言 | 第17页 |
| ·衬底的处理方法 | 第17-18页 |
| ·TbFeCo样品的制备 | 第18-24页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·射频溅射法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射仪简介 | 第21-22页 |
| ·溅射产额 | 第22-23页 |
| ·成核机理 | 第23页 |
| ·溅射过程 | 第23-24页 |
| ·AlN、SiN保护层的制备 | 第24-30页 |
| ·反应溅射工作原理 | 第24-25页 |
| ·AlN、SiN薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·AlN和SiN薄膜的光学特性与溅射工艺的关系 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 结构和光学性质分析 | 第31-51页 |
| 引言 | 第31页 |
| ·XRD | 第31-34页 |
| ·X射线衍射仪原理 | 第31-32页 |
| ·X射线测试结果 | 第32-33页 |
| ·Ag厚度的影响 | 第33-34页 |
| ·SEM和EDAX分析 | 第34-38页 |
| ·AFM分析 | 第38-41页 |
| ·椭圆偏振光谱仪分析 | 第41-50页 |
| ·测量原理 | 第42-45页 |
| ·椭圆偏振光谱分析 | 第45-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 磁性分析 | 第51-60页 |
| 引言 | 第51页 |
| ·磁光效应 | 第51-55页 |
| ·磁光薄膜的kerr角 | 第52-55页 |
| ·磁性 | 第55-57页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第56-57页 |
| ·Ag保护膜的厚度对磁光记录膜特性的影响 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附录: 发表论文、申请和参加课题 | 第66-67页 |
