| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·纳米技术的现状和发展前景 | 第11-13页 |
| ·本课题的研究目标 | 第13-15页 |
| 第2章 纳米薄膜制备工艺介绍和性能测试 | 第15-27页 |
| ·纳米薄膜制备工艺简介 | 第15-16页 |
| ·纳米薄膜制备工艺流程 | 第16-21页 |
| ·基片清洗 | 第17-18页 |
| ·旋涂溶液的配置 | 第18页 |
| ·旋涂成膜 | 第18-20页 |
| ·热固化 | 第20页 |
| ·去掉部分的 PS | 第20-21页 |
| ·真空干燥 | 第21页 |
| ·影响成膜质量的主要因素 | 第21-23页 |
| ·溶剂对纳米薄膜成膜质量的影响 | 第21页 |
| ·基底对纳米薄膜成膜质量的影响 | 第21-22页 |
| ·分子量的大小对纳米薄膜成膜质量的影响 | 第22页 |
| ·旋膜的速度对纳米薄膜成膜质量的影响 | 第22-23页 |
| ·纳米薄膜的性能测试 | 第23-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 介质等效折射率模型 | 第27-37页 |
| ·等效电路法 | 第27-29页 |
| ·等效电路法原理 | 第27-29页 |
| ·Lichtenecker 方法 | 第29页 |
| ·模系统模拟法 | 第29-32页 |
| ·另外几种多孔介质等效介电常数模型 | 第32-33页 |
| ·Bruggeman 模型 | 第32页 |
| ·Looyenga 模型 | 第32页 |
| ·Maxwell Garnett 模型 | 第32-33页 |
| ·纳米薄膜等效折射率模型 | 第33-36页 |
| ·两相纳米薄膜混合介质并联模型 | 第33页 |
| ·三相纳米薄膜等效折射率模型 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 时域有限差分法 | 第37-64页 |
| ·时域有限差分法的来源 | 第37-38页 |
| ·Maxwell 方程的分量形式 | 第38-40页 |
| ·Maxwell 方程的时域有限差分形式 | 第40-44页 |
| ·影响时域有限差分算法稳定性的因素 | 第44-47页 |
| ·时域有限差分算法时间步长的选取 | 第44-45页 |
| ·时域有限差分算法空间步长的选取 | 第45-46页 |
| ·时域有限差分算法中波源的选取条件 | 第46-47页 |
| ·两种边界吸收条件介绍 | 第47-54页 |
| ·Mur 边界吸收条件 | 第48-51页 |
| ·PML 边界吸收条件 | 第51-54页 |
| ·Mur 边界吸收条件和 PML 边界吸收条件比较 | 第54页 |
| ·时域有限差分法中的数字色散问题 | 第54-55页 |
| ·近场与远场的转换 | 第55-56页 |
| ·时域有限差分法的优点 | 第56-58页 |
| ·时域有限差分法可以用来直接计算时域量 | 第57页 |
| ·时域有限差分法具有广泛的使用性 | 第57页 |
| ·节约计算时的计算机存储空间和计算时间 | 第57-58页 |
| ·时域有限差分法适合并行计算 | 第58页 |
| ·时域有限差分法非常直观 | 第58页 |
| ·时域有限差分法的难点 | 第58-59页 |
| ·时域有限差分法的现状与展望 | 第59-61页 |
| ·时域有限差分法的现状 | 第59-60页 |
| ·时域有限差分的发展展望 | 第60-61页 |
| ·使用时域有限差分法编程时编程语言的选择 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 纳米薄膜空间周期性对其光学性质的影响 | 第64-77页 |
| ·纳米薄膜的空间结构组成 | 第64-66页 |
| ·纳米孔隙呈二维正交周期性时对其光学性质的影响 | 第66-68页 |
| ·纳米孔隙呈二维正方形周期性排列对其光学性质的影响 | 第68-70页 |
| ·纳米孔隙呈二维斜交周期性排列对其光学性质的影响 | 第70-72页 |
| ·纳米孔隙呈二维三角周期性排列对其光学性质的影响 | 第72-74页 |
| ·纳米孔隙的不同周期性排列对其光学性质的影响 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |