| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·纳米技术的发展 | 第9-10页 |
| ·Si0_2 的基本性质以及应用 | 第10-14页 |
| ·Au/Si0_2 纳米颗粒膜的研究进展 | 第14-19页 |
| ·Si0_2 纳米线的研究进展 | 第19-22页 |
| ·本论文的选题依据 | 第22-25页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第25-31页 |
| ·实验设备介绍 | 第25-27页 |
| ·实验材料 | 第27-28页 |
| ·样品的测试和表征 | 第28-31页 |
| 第三章 磁控溅射和退火法制备Au/Si0_2纳米颗粒膜 | 第31-37页 |
| ·Au/Si0_2 纳米颗粒膜的制备 | 第31页 |
| ·退火温度对Au/Si0_2 纳米颗粒膜形貌的影响 | 第31-34页 |
| ·退火时间对Au/Si0_2 纳米颗粒膜形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 磁控溅射和退火法制备Si0_2纳米线 | 第37-43页 |
| ·Si0_2 纳米线的制备 | 第37页 |
| ·Si0_2 纳米线的测试及特性分析 | 第37-40页 |
| ·Si0_2 纳米线的生长机理的研究 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 全文总结 | 第43-45页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第43-44页 |
| ·对今后工作的建议 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 论文作者在学期间发表的学术论文目录 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
