| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·低介电常数的研究背景 | 第7-10页 |
| ·SiCOH 薄膜研究现状 | 第10-12页 |
| ·制备技术 | 第10-11页 |
| ·源气体 | 第11页 |
| ·后处理 | 第11-12页 |
| ·本小组 SiCOH 薄膜研究的主要进展 | 第12-13页 |
| ·本文的研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 S i O C H 薄膜的制备及表征方法 | 第14-27页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备方法 | 第14-19页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体（ECR Plasma）简介 | 第14-15页 |
| ·ECR 等离子体沉积薄膜方法与实验装置 | 第15-17页 |
| ·实验方案与工艺参数 | 第17-19页 |
| ·源气体 | 第17-18页 |
| ·实验方案与技术参数 | 第18-19页 |
| ·SiCOH 薄膜性能与结构的表征方法 | 第19-27页 |
| ·SiCOH 薄膜的介电与电学性能的表征 | 第19-20页 |
| ·SiCOH 薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征 | 第20-24页 |
| ·SiCOH 薄膜润湿性能的水接触角（contact angle）表征 | 第24-27页 |
| 第三章 O_2等离子体表面处理对薄膜电学性能、介电性能的影响 | 第27-31页 |
| ·O_2等离子体处理对 SiCOH 薄膜电绝缘性能的影响 | 第27-30页 |
| ·O_2等离子体处理对 SiCOH 薄膜介电性能的影响 | 第30-31页 |
| 第四章 O_2等离子体表面处理对薄膜吸湿性能的影响及结构关联 | 第31-36页 |
| ·O_2等离子体表面处理前后薄膜吸湿性能的变化 | 第31-32页 |
| ·O_2等离子体处理对 SiCOH 薄膜键结构的影响 | 第32-36页 |
| 第五章 结论 | 第36-38页 |
| ·本文的主要结果 | 第36页 |
| ·存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-42页 |
| 附录：攻读学位期间公开发表的论文 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-45页 |
| 详细摘要 | 第45-48页 |
