基于磁光薄膜波导的集成光隔离器的研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-24页 |
·引言 | 第9-10页 |
·光隔离器的应用 | 第10-11页 |
·光隔离器的主要性能指标 | 第11-12页 |
·集成光隔离器的研究历史及现状 | 第12-19页 |
·磁光薄膜材料 | 第19-20页 |
·磁光薄膜材料的制备方法 | 第20-22页 |
·本文的工作及论文结构 | 第22-24页 |
第二章 磁光介质中的电磁波 | 第24-37页 |
·平面波在磁化磁性材料中的传输特性 | 第24-27页 |
·光波在磁光薄膜中的传输特性 | 第27-30页 |
·耦合波方程的数值求解过程 | 第30-34页 |
·数值计算程序的验证 | 第34-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第三章 磁光隔离器的设计及仿真 | 第37-53页 |
·硅基光波导中的光学缓冲层 | 第37-38页 |
·含相位补偿器的磁光隔离器 | 第38-45页 |
·相位自补偿磁光隔离器 | 第45-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第四章 射频磁控溅射法制备CE:YIG 薄膜 | 第53-62页 |
·二氧化硅薄膜的制作方法 | 第54-55页 |
·CE:YIG 薄膜的射频磁控溅射工艺过程 | 第55-57页 |
·制备条件对CE:YIG 薄膜结构的影响 | 第57-59页 |
·薄膜的后续处理 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第五章 结论 | 第62-64页 |
·全文工作总结 | 第62-63页 |
·后期工作展望 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
附录 | 第72-81页 |