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基于磁光薄膜波导的集成光隔离器的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-24页
   ·引言第9-10页
   ·光隔离器的应用第10-11页
   ·光隔离器的主要性能指标第11-12页
   ·集成光隔离器的研究历史及现状第12-19页
   ·磁光薄膜材料第19-20页
   ·磁光薄膜材料的制备方法第20-22页
   ·本文的工作及论文结构第22-24页
第二章 磁光介质中的电磁波第24-37页
   ·平面波在磁化磁性材料中的传输特性第24-27页
   ·光波在磁光薄膜中的传输特性第27-30页
   ·耦合波方程的数值求解过程第30-34页
   ·数值计算程序的验证第34-36页
   ·本章小结第36-37页
第三章 磁光隔离器的设计及仿真第37-53页
   ·硅基光波导中的光学缓冲层第37-38页
   ·含相位补偿器的磁光隔离器第38-45页
   ·相位自补偿磁光隔离器第45-52页
   ·本章小结第52-53页
第四章 射频磁控溅射法制备CE:YIG 薄膜第53-62页
   ·二氧化硅薄膜的制作方法第54-55页
   ·CE:YIG 薄膜的射频磁控溅射工艺过程第55-57页
   ·制备条件对CE:YIG 薄膜结构的影响第57-59页
   ·薄膜的后续处理第59-60页
   ·本章小结第60-62页
第五章 结论第62-64页
   ·全文工作总结第62-63页
   ·后期工作展望第63-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-71页
攻硕期间取得的研究成果第71-72页
附录第72-81页

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