| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·烟酸的生产方法 | 第11-16页 |
| ·液相氧化法 | 第12-13页 |
| ·电化学氧化法 | 第13-14页 |
| ·气相氧化法 | 第14-15页 |
| ·氨氧化-水解法 | 第15-16页 |
| ·3-甲基吡啶氨氧化催化剂研究进展 | 第16-25页 |
| ·催化剂活性组分种类 | 第16-18页 |
| ·载体种类 | 第18-19页 |
| ·V_2O_5/TiO_2催化剂 | 第19-23页 |
| ·催化剂的制备 | 第19-20页 |
| ·焙烧温度选择 | 第20-21页 |
| ·V_2O_5/TiO_2催化剂的结构 | 第21-23页 |
| ·氨氧化反应机理 | 第23-25页 |
| ·芳烃氨氧化历程 | 第23-24页 |
| ·3-甲基吡啶氨氧化机理推测 | 第24-25页 |
| ·课题的研究意义 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-32页 |
| ·实验药品与仪器 | 第27-28页 |
| ·实验药品 | 第27页 |
| ·实验仪器 | 第27-28页 |
| ·催化剂的制备 | 第28页 |
| ·实验装置 | 第28-29页 |
| ·反应产物分析 | 第29页 |
| ·催化剂表征 | 第29-32页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第29页 |
| ·拉曼(Raman)光谱 | 第29页 |
| ·程序升温脱附(TPD) | 第29-30页 |
| ·程序升温还原(TPR) | 第30-31页 |
| ·催化剂比表面和孔结构测定 | 第31-32页 |
| 第三章 V_2O_5负载在低比表面积TiO_2催化剂性能研究 | 第32-44页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·钒负载量对催化剂结构和性能的影响 | 第32-35页 |
| ·催化剂的制备 | 第32页 |
| ·催化剂的XRD表征 | 第32-33页 |
| ·催化剂的Raman表征 | 第33-34页 |
| ·活性评价 | 第34-35页 |
| ·钒前驱体对催化剂结构和性能的影响 | 第35-37页 |
| ·催化剂的制备 | 第35页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第35-36页 |
| ·不同钒前驱体V_2O_5/TiO_2(13)催化性能比较 | 第36-37页 |
| ·焙烧温度对催化剂结构和性能的影响 | 第37-40页 |
| ·催化剂的制备 | 第37页 |
| ·催化剂的XRD表征 | 第37-38页 |
| ·焙烧温度对催化剂性能影响 | 第38-40页 |
| ·还原剂草酸用量的影响 | 第40-41页 |
| ·催化剂的制备 | 第40页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第40-41页 |
| ·焙烧升温程序对催化性能的影响 | 第41-43页 |
| ·催化剂的制备 | 第42页 |
| ·催化剂的活性比较 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 V_2O_5负载在高比表面积TiO_2(328)催化剂性能研究 | 第44-58页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·TiO_2(328)的BET表征 | 第44-45页 |
| ·钒负载量对V_2O_5/TiO_2(328)催化剂结构和性能的影响 | 第45-49页 |
| ·催化剂的制备 | 第45页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第45-47页 |
| ·催化剂的XRD图谱 | 第47-49页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第49-52页 |
| ·催化剂的制备 | 第49页 |
| ·催化剂的比表面积和孔结构 | 第49-50页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第50-52页 |
| ·与V_2O_5/TiO_2(13)比较 | 第52-56页 |
| ·V_2O_5负载量对V_2O_5/TiO_2催化剂性能影响的异同 | 第52页 |
| ·相同V_2O_5负载量的V_2O_5/TiO_2催化剂性能比较 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 附录 | 第66-68页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
