第1章 绪论 | 第1-18页 |
·陶瓷材料胶态成型制备的研究现状 | 第8-9页 |
·高固相含量低粘度陶瓷料浆的制备及粉体的表面改性 | 第9-11页 |
·胶体稳定机制 | 第11-16页 |
·双电层和ζ电位 | 第11-12页 |
·颗粒间的相互作用及稳定分散 | 第12-16页 |
·论文研究的目的与意义 | 第16-18页 |
·论文研究的意义 | 第16页 |
·论文研究的主要内容 | 第16-18页 |
第2章 实验 | 第18-26页 |
·实验原料 | 第18-19页 |
·SiC原料 | 第18-19页 |
·辅助原料及化学试剂 | 第19页 |
·实验工艺 | 第19-22页 |
·有机包覆体系的选择原理 | 第19-20页 |
·包覆工艺流程 | 第20-21页 |
·SiC粉的预处理 | 第21页 |
·偶联剂包覆 SiC粉体的工艺 | 第21-22页 |
·双层包覆 SiC粉体的工艺 | 第22页 |
·改性工艺参数的确定 | 第22-23页 |
·反应温度对包覆效果的影响 | 第22页 |
·引发剂加入量对包覆效果的影响 | 第22-23页 |
·性能测试 | 第23-26页 |
·SiC粉体性能表征 | 第23-24页 |
·浆料的胶体特性 | 第24页 |
·浆料的稳定性能 | 第24页 |
·浆料流变性测定 | 第24-26页 |
第3章 改性 SiC粉体表面结构与性能的表征 | 第26-34页 |
·改性 SiC粉的分析 | 第26-31页 |
·粉体的X-射线衍射分析 | 第26-27页 |
·粉体的热重和差示扫描热(TG-DSC)测试分析 | 第27-28页 |
·粉体的透射电镜(TEM)测试分析 | 第28-29页 |
·粉体表面的红外光谱分析 | 第29-31页 |
·SiC粉体水基分散的润湿性和稳定性 | 第31-34页 |
·SiC粉体的润湿性 | 第31-33页 |
·SiC粉体的分散稳定性 | 第33-34页 |
第4章 表面改性 SiC料浆特性的研究及其分散机制 | 第34-49页 |
·原始 SiC粉的表面特性及料浆流变性能 | 第34-35页 |
·原始 SiC粉体的 Zeta电位 | 第34-35页 |
·原始 SiC粉体料浆的流动特性 | 第35页 |
·偶联剂包覆 SiC粉体的Zeta电位与料浆流动特性 | 第35-37页 |
·偶联剂种类对料浆分散性能的影响 | 第35-36页 |
·偶联剂包覆粉的Zeta电位 | 第36页 |
·偶联剂包覆粉体的分散与流动特性 | 第36-37页 |
·水杨酸包覆 SiC粉体的 Zeta电位与料浆流动特性 | 第37-39页 |
·水杨酸包覆 SiC粉体的Zeta电位 | 第37页 |
·水杨酸包覆 SiC粉体的料浆流动特性 | 第37-39页 |
·双层包覆 SiC粉体的Zeta电位与料浆流动特性 | 第39-40页 |
·双层包覆 SiC粉体的Zeta电位 | 第39页 |
·双层包覆 SiC粉体的料浆流动特性 | 第39-40页 |
·水杨酸和PAM复合包覆 SiC粉体的Zeta电位与料浆流动特性 | 第40-42页 |
·水杨酸和PAM复合包覆 SiC粉体的Zeta电位 | 第40-41页 |
·水杨酸和PAM复合包覆 SiC粉体的料浆流动特性 | 第41-42页 |
·改性 SiC粉体的分散机制 | 第42-49页 |
·偶联剂包覆粉体的稳定分散机制 | 第43页 |
·WD-60/水杨酸包覆粉体的稳定分散机制 | 第43-44页 |
·WD-20/丙烯酰胺包覆粉体的稳定分散机制 | 第44-46页 |
·水杨酸结合丙烯酸胺复合包覆粉体的稳定分散机制 | 第46-49页 |
第5章 结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-53页 |
致谢 | 第53页 |