| 第一部分 综述 | 第1-41页 |
| 第一章 分子印迹技术 | 第9-36页 |
| 一、分析印迹技术的历史概况 | 第9-10页 |
| 二、分子印迹技术的原理和特点 | 第10-11页 |
| 三、分子印迹技术的分类 | 第11-14页 |
| 四、分子印迹技术的热力学和动力学 | 第14-17页 |
| 五、分子印迹聚合物选择性的影响因素 | 第17-20页 |
| 六、分子印迹聚合物的制备 | 第20-25页 |
| 七、分子印迹聚合物的应用 | 第25-34页 |
| 八、分子印迹技术现存问题 | 第34-36页 |
| 第二章 鲁米诺-铁氰化钾化学发光体系的分析应用 | 第36-41页 |
| 一、概况 | 第36-37页 |
| 二、鲁米诺-铁氰化钾的化学发光体系 | 第37-41页 |
| 第二部分 研究报告 | 第41-70页 |
| 一、分子印迹-后化学发光法测定双嘧达莫 | 第41-51页 |
| 二、分子印迹-后化学发光法测定焦性没食子酸 | 第51-61页 |
| 三、氨苄西林的后化学发光的研究 | 第61-67页 |
| 四、流动注射化学发光法测定单乙酰吗啡 | 第67-70页 |
| 总结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第96页 |