| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-11页 |
| 第一章 传统的知识产权保护与布图设计 | 第11-17页 |
| 一、 专利法不能给布图设计提供充分的保护 | 第12-13页 |
| 二、 版权法不能给布图设计提供保护 | 第13-15页 |
| 三、 商业秘密不能给布图设计提供保护 | 第15-17页 |
| 第二章. 集成电路布图设计保护的必要性以及保护形式 | 第17-21页 |
| 一、 布图设计保护的必要性 | 第17-19页 |
| 二、 布图设计保护形式的选择 | 第19-21页 |
| 第三章 美国1984 年《半导体芯片保护法》 | 第21-41页 |
| 第一节 1984 年《芯片法》的主要内容 | 第21-28页 |
| 一、 1984 年《芯片法》的保护对象 | 第21-23页 |
| 二、 1984 年《芯片法》要求的保护条件 | 第23-25页 |
| 三、 1984 年《芯片法》中布图设计权的内容 | 第25-26页 |
| 四、 1984 年《芯片法》对布图设计权的限制 | 第26-27页 |
| 五、 1984 年《芯片法》对布图设计权的救济措施 | 第27-28页 |
| 第二节. 适用1984 年《芯片法》的一个案例 | 第28-33页 |
| 第三节. 1984 年《芯片法》的亮点 | 第33-41页 |
| 一、 1984 年《芯片法》对于反向工程的规定 | 第33-36页 |
| 二、 1984 年《芯片法》对掩膜作品的国籍要求带来的效应 | 第36-41页 |
| 第四章 对布图设计司法实践的分析 | 第41-45页 |
| 一、 立法本身的原因 | 第41-42页 |
| 二、 科技的进步以及法律的完善 | 第42页 |
| 三、 半导体行业自身的特点决定的 | 第42-43页 |
| 四、 高科技行业中诉讼纠纷的解决特点决定的 | 第43-45页 |
| 第五章 我国关于集成电路布图设计保护的立法和现状 | 第45-51页 |
| 一、 我国关于集成电路布图设计保护的立法 | 第45-48页 |
| 二、 目前在我国集成电路知识产权保护情况的现状及其必要性 | 第48-51页 |
| 1. 我国集成电路知识产权保护现状 | 第48-49页 |
| 2. 我国加强知识产权的保护的重要意义 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
