单晶金刚石及金刚石膜化学机械法抛光研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·本课题的研究意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-18页 |
| ·金刚石与金刚石膜的性质 | 第10-12页 |
| ·金刚石及CVD金刚石膜的抛光技术 | 第12-18页 |
| ·本课题的来源与主要研究内容 | 第18-19页 |
| ·课题的来源 | 第18页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第18页 |
| ·课题研究的主要目标 | 第18-19页 |
| 第二章 实验装置设计 | 第19-27页 |
| ·导言 | 第19页 |
| ·实验装置设计原则 | 第19-20页 |
| ·化学机械法抛光实验装置设计 | 第20-27页 |
| ·抛光装置设计方案一 | 第21-22页 |
| ·抛光装置设计方案二 | 第22-23页 |
| ·抛光装置设计方案三 | 第23-26页 |
| ·方案的选定 | 第26-27页 |
| 第三章 实验研究方案设计 | 第27-38页 |
| ·实验总体思路 | 第27-28页 |
| ·实验条件 | 第28-33页 |
| ·金刚石及金刚石膜的固定 | 第28-30页 |
| ·抛光底盘的选择 | 第30-31页 |
| ·氧化剂的选择 | 第31-32页 |
| ·添加剂的选择 | 第32-33页 |
| ·实验条件和实验方法 | 第33-35页 |
| ·实验用单晶金刚石及金刚石膜 | 第33页 |
| ·静态氧化实验设备 | 第33-34页 |
| ·化学机械法抛光实验设备 | 第34页 |
| ·化学机械法抛光步骤 | 第34-35页 |
| ·实验测试分析仪器与分析方法 | 第35-36页 |
| ·实验条件及实验方法 | 第36-38页 |
| ·静态氧化实验条件及方法 | 第36-37页 |
| ·化学机械法抛光实验条件及方法 | 第37-38页 |
| 第四章 单晶金刚石化学机械法抛光研究 | 第38-47页 |
| ·单晶金刚石静态氧化实验 | 第38-39页 |
| ·单晶金刚石化学机械抛光实验 | 第39-43页 |
| ·金刚石抛光去除过程及机理讨论 | 第43-46页 |
| ·单晶金刚石抛光面激光拉曼光谱分析 | 第43页 |
| ·抛光后金刚石的原子力显微镜分析 | 第43-44页 |
| ·金刚石化学机械法抛光去除机理分析 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 金刚石膜化学机械法抛光研究 | 第47-69页 |
| ·金刚石膜静态氧化实验及分析 | 第47-48页 |
| ·金刚石膜抛光的去除过程及机理分析 | 第48-55页 |
| ·金刚石膜抛光的去除过程 | 第49-51页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第51页 |
| ·金刚石膜抛光表面原子力显微镜分析 | 第51-52页 |
| ·金刚石膜抛光机理分析 | 第52-55页 |
| ·工艺参数对抛光金刚石膜的影响 | 第55-65页 |
| ·氧化剂种类及配方对抛光的影响 | 第55-57页 |
| ·抛光转速对抛光的影响 | 第57-59页 |
| ·金刚石膜压力对抛光的影响 | 第59-60页 |
| ·实验温度对抛光的影响 | 第60-62页 |
| ·添加剂对抛光的影响 | 第62-65页 |
| ·预处理对抛光的影响 | 第65-67页 |
| ·纯机械法初磨对抛光的影响 | 第66-67页 |
| ·静态氧化预处理对抛光的影响 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 结论与展望 | 第69-71页 |
| 一、结论 | 第69-70页 |
| 二、展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读学位期间所发表论文及所申请专利 | 第75-77页 |
| 发表论文： | 第75页 |
| 申请专利： | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
