| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-29页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·磁记录原理及其对介质的要求 | 第11-13页 |
| ·纵向磁记录面临的问题及克服方法 | 第13-15页 |
| ·垂直磁记录介质发展概述 | 第15-19页 |
| ·光磁混合磁记录对介质的要求及发展概况 | 第19-24页 |
| ·钴基稀土系记录介质的研究概况 | 第24-27页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第27-29页 |
| 2 薄膜样品的制备及分析测试 | 第29-42页 |
| ·磁控溅射装置及原理 | 第29-32页 |
| ·样品的制备 | 第32-34页 |
| ·样品的磁及磁光性能测试 | 第34-39页 |
| ·薄膜微结构及分析测试 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 3 DyCo/Cr 薄膜的结构和性能研究 | 第42-58页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·材料组分及溅射工艺参数对DyCo 薄膜磁性能的影响 | 第42-47页 |
| ·Cr 底层溅射工艺参数及结构对DyCo/Cr 薄膜结构及性能影响 | 第47-51页 |
| ·DyCo/Cr 薄膜温度特性研究 | 第51-55页 |
| ·DyCo/Cr 薄膜退火实验研究 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 4 Sm(Nd)Dy(Tb)Co/Cr 薄膜特性研究 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·Sm(Nd)Dy(Tb)Co/Cr 薄膜的制备 | 第58-59页 |
| ·SmDyCo/Cr 非晶垂直磁化膜特性研究 | 第59-65页 |
| ·NdTb(Dy)Co/Cr 非晶垂直磁化膜特性研究 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 5 钴基稀土系记录薄膜磁特性和磁化过程理论模拟研究 | 第71-99页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·微磁理论模型 | 第71-77页 |
| ·运用微磁模型模拟磁化过程 | 第77-79页 |
| ·实验模拟结果及分析 | 第79-96页 |
| ·本章小结 | 第96-99页 |
| 6 全文总结 | 第99-101页 |
| 致谢 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-113页 |
| 附录 1 攻读学位期间发表的论文目录 | 第113-114页 |
