低压金刚石薄膜制备与研究
| 文献综述 | 第1-68页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 概论 | 第10-18页 |
| ·低压金刚石薄膜生长的基本原理 | 第10-11页 |
| ·低压金刚石薄膜的合成方法 | 第11-16页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第11-16页 |
| ·普通化学气相沉积 | 第11-12页 |
| ·直流等离子体化学气相沉积 | 第12-13页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·火焰燃烧法 | 第14-15页 |
| ·热丝化学气相沉积法(HFCVD) | 第15-16页 |
| ·CVD法沉积金刚石膜的几种主要方法的评述 | 第16-18页 |
| 第二章 金刚石的形核与生长 | 第18-24页 |
| ·影响金刚石低压气相形核的一些主要因素 | 第19-20页 |
| ·衬底的预处理对形核的影响 | 第19页 |
| ·基体温度对形核的影响 | 第19页 |
| ·碳源气体的浓度对形核的影响 | 第19-20页 |
| ·等离子体密度和功率密度对形核的影响 | 第20页 |
| ·沉积室气压对形核的影响 | 第20页 |
| ·基体偏压对形核的影响 | 第20页 |
| ·影响金刚石膜沉积生长的主要因素 | 第20-22页 |
| ·碳源气体的浓度 | 第21-22页 |
| ·沉积温度 | 第22页 |
| ·沉积气压 | 第22页 |
| ·反应气体的选择 | 第22页 |
| ·金刚石膜生成的基本条件 | 第22-23页 |
| ·超平衡氢原子的作用 | 第23-24页 |
| 第三章 金刚石薄膜的应用 | 第24-31页 |
| ·金刚石力学性质的应用 | 第24-26页 |
| ·光学性能的应用 | 第26页 |
| ·电学性能的应用 | 第26-27页 |
| ·热学性质的应用 | 第27-28页 |
| ·金刚石的其他优异性能 | 第28-29页 |
| ·课题选择的背景和意义 | 第29-31页 |
| 第四章 金刚石膜的制备与研究 | 第31-54页 |
| ·热丝CVD法沉积金刚石膜实验装置及实验步骤 | 第31-33页 |
| ·实验装置图 | 第31-32页 |
| ·灯丝结构的设计 | 第32页 |
| ·实验步骤操作规程 | 第32-33页 |
| ·实验仪器与用品 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34页 |
| ·灯丝预处理 | 第34页 |
| ·金刚石膜沉积过程 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-53页 |
| ·基片的预处理 | 第35-37页 |
| ·甲烷含量 | 第37-41页 |
| ·基体温度对金刚石膜的影响 | 第41-44页 |
| ·基体偏压对金刚石膜的影响 | 第44-48页 |
| ·沉积气压 | 第48-50页 |
| ·沉积时间 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第五章 金刚石复合膜的制备研究 | 第54-68页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验部分 | 第54-56页 |
| ·实验装置图 | 第54页 |
| ·金刚石复合膜沉积过程 | 第54-56页 |
| ·实验结果 | 第56-58页 |
| ·影响复合膜沉积的主要工艺参数 | 第58-67页 |
| ·灯丝预处理 | 第58-59页 |
| ·基体温度 | 第59-62页 |
| ·甲烷流量和载气流量 | 第62-64页 |
| ·基体偏压 | 第64-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文目录 | 第75页 |
