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1550nm分布反馈激光器的模拟及制作均匀光栅的研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-5页
目录第5-7页
第一章 绪论第7-13页
 §1-1 分布反馈激光器的发展概述第7-9页
  1-1-1 分布反馈激光器的概念的提出第7页
  1-1-2 分布反馈激光器的发展回顾第7-8页
  1-1-3 分布反馈激光器的应用第8-9页
 §1-2 分布反馈激光器的发展趋势第9-11页
 §1-3 分布反馈激光器的设计思路第11-12页
  1-3-1 分布反馈激光器的的研究方法第11页
  1-3-2 分布反馈激光器的结构设计思路第11-12页
  1-3-3 本文研究的重点内容第12页
 §1-4 本章总结第12-13页
第二章 分布反馈激光器的分析与设计第13-22页
 §2-1 分布反馈激光器简介第13-18页
  2-1-1 光栅实现光的振荡的基本原理第13-14页
  2-1-2 分布反馈激光器的类型简介第14-16页
  2-1-3 分布反馈激光器的性能指标第16-18页
 §2-2 分布反馈激光器的工艺介绍第18-21页
  2-2-1 半导体激光器的工艺流程第18-19页
  2-2-2 分布反馈激光器的外延工艺介绍第19-21页
  2-2-3 分布反馈激光器的光栅制作第21页
 §2-3 本章小结第21-22页
第三章 分布反馈激光器的模拟第22-42页
 §3-1 分布反馈激光器光场的理论基础第22-29页
  3-1-1 波导的两个基本方程第22-23页
  3-1-2 格林公式法求解波导方程第23-24页
  3-1-3 耦合波方程第24-26页
  3-1-4 传输矩阵法第26-27页
  3-1-5 布拉格波长及相关参数第27-28页
  3-1-6 自恰求解稳态方程第28-29页
 §3-2 分布反馈激光器的模拟软件(PICS3D)简介第29-32页
  3-2-1 PICS3D软件概述第29-30页
  3-2-2 PICS3D软件的使用方法第30-32页
 §3-3 模拟结果及分析第32-41页
  3-3-1 计算参数的选取第32页
  3-3-2 模拟结果与分析第32-41页
 §3-4 本章小结第41-42页
第四章 均匀光栅的制作第42-51页
 §4-1 光刻技术简介第42-46页
  4-1-1 制作光栅的光刻技术简介第42-44页
  4-1-2 湿法腐蚀简介第44-45页
  4-1-3 光刻中常遇到的问题第45-46页
 §4-2 制作均匀光栅的实验第46-50页
  4-2-1 InP材料的常用化学腐蚀液体系第46页
  4-2-2 制作均匀光栅的试验第46-48页
  4-2-3 实验结果与分析第48-50页
 §4-3 本章小结第50-51页
第五章 结论第51-52页
参考文献第52-55页
致谢第55-56页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第56页

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