聚吡咯和氧化石墨纳米复合材料的制备及性能研究
致谢 | 第1-6页 |
中文摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
1 引言 | 第12-25页 |
·导电聚合物简介 | 第13-14页 |
·导电聚合物的定义 | 第13页 |
·导电聚合物的种类 | 第13-14页 |
·导电聚合物的结构特征 | 第14页 |
·导电聚吡咯简介 | 第14-20页 |
·PPy的研究概况 | 第14-15页 |
·PPy的结构特征 | 第15-16页 |
·PPy的掺杂机理 | 第16-17页 |
·PPy的合成方法 | 第17-18页 |
·PPy的性质 | 第18页 |
·PPy的应用 | 第18-20页 |
·吸波材料 | 第20-22页 |
·吸波材料的吸波原理 | 第20-21页 |
·吸波材料的分类 | 第21页 |
·吸波材料的研究现状 | 第21-22页 |
·层状无机物简介 | 第22-23页 |
·氧化石墨 | 第23页 |
·聚合物/氧化石墨纳米复合材料 | 第23页 |
·选题依据及主要研究内容 | 第23-25页 |
·选题依据 | 第23-24页 |
·研究内容 | 第24-25页 |
2 实验制备方法和表征手段 | 第25-31页 |
·试剂与仪器 | 第25-26页 |
·实验原料规格 | 第25页 |
·实验所用仪器型号及厂家 | 第25-26页 |
·实验部分 | 第26-29页 |
·聚吡咯的制备 | 第26-27页 |
·GO的制备 | 第27-28页 |
·聚吡咯/GO复合材料的制备 | 第28-29页 |
·样品表征 | 第29-31页 |
·结构分析方法 | 第29-30页 |
·性能分析方法 | 第30-31页 |
3 聚吡咯的合成及性能表征 | 第31-35页 |
·聚吡咯的结构和扫描电镜形貌 | 第31-32页 |
·聚吡咯的XRD分析 | 第32页 |
·聚吡咯的FT-IR分析 | 第32-33页 |
·聚吡咯的导电性能分析 | 第33-34页 |
·聚吡咯的红外发射率分析 | 第34页 |
·小结 | 第34-35页 |
4 氧化石墨的合成和性能表征 | 第35-38页 |
·两种石墨原材料对比 | 第35页 |
·氧化石墨的扫描电镜形貌 | 第35-36页 |
·氧化石墨的XRD分析 | 第36-37页 |
·氧化石墨的FT-IR分析 | 第37页 |
·小结 | 第37-38页 |
5 聚吡咯/氧化石墨复合材料的合成和性能表征 | 第38-53页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的结构和扫描电镜形貌 | 第39-40页 |
·改变表面活性剂浓度 | 第39页 |
·改变氧化剂浓度 | 第39-40页 |
·改变氧化石墨的质量 | 第40页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的XRD分析 | 第40-42页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的FT-IR分析 | 第42-43页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的导电性能 | 第43-44页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的红外发射率特性 | 第44-45页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的电磁参数分析 | 第45-49页 |
·表面活性剂对复合材料电磁损耗性能的影响 | 第46-47页 |
·氧化剂对复合材料电磁损耗性能的影响 | 第47-48页 |
·氧化石墨对复合材料电磁性能的影响 | 第48-49页 |
·聚吡咯/氧化石墨复合材料的吸波性能分析 | 第49-52页 |
·聚吡咯的反射损耗 | 第49页 |
·CTAB浓度不同时复合材料的反射损耗 | 第49-50页 |
·APS浓度不同时复合材料的反射损耗 | 第50-51页 |
·GO浓度不同时复合材料的反射率 | 第51-52页 |
·小结 | 第52-53页 |
6 结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
作者简历 | 第56-58页 |
学位论文数据集 | 第58页 |