脉冲电流烧结氮化铝透明陶瓷
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·透明陶瓷的发展现状 | 第9-12页 |
| ·氧化物透明陶瓷 | 第9-11页 |
| ·非氧化物透明陶瓷 | 第11-12页 |
| ·AIN透明陶瓷的研究趋势 | 第12-17页 |
| ·AIN陶瓷材料的特性与应用 | 第12-13页 |
| ·AIN陶瓷粉体的制备方法 | 第13-14页 |
| ·透明AIN陶瓷的研究进展 | 第14-17页 |
| 第二章 实验设备 | 第17-27页 |
| ·脉冲电流烧结技术及设备 | 第17-24页 |
| ·脉冲电流烧结技术简介 | 第17-21页 |
| ·脉冲电流烧结技术的应用 | 第21-24页 |
| ·脉冲电流烧结机理 | 第24-25页 |
| ·本文研究的目的意义及研究内容 | 第25-27页 |
| ·研究的目的意义 | 第25页 |
| ·研究内容 | 第25-27页 |
| 第三章 脉冲电流烧结氮化铝透明陶瓷的研究 | 第27-46页 |
| ·实验方法及过程 | 第27-28页 |
| ·原料粉的性能测试 | 第27页 |
| ·试样加工 | 第27页 |
| ·试样密度测定 | 第27页 |
| ·试样光性能测试 | 第27-28页 |
| ·试样显微结构的观察分析 | 第28页 |
| ·SEM分析 | 第28页 |
| ·TEM分析 | 第28页 |
| ·制备透明氮化铝陶瓷的粉体特性 | 第28-31页 |
| ·透明氮化铝陶瓷的制备 | 第31-41页 |
| ·原料粉粒径对烧结体性能的影响 | 第32-33页 |
| ·烧结温度对烧结体性能的影响 | 第33-36页 |
| ·保温时间对烧结体性能的影响 | 第36-38页 |
| ·升温速率对烧结体性能的影响 | 第38-39页 |
| ·烧结气氛对烧结体性能的影响 | 第39-40页 |
| ·透明氮化铝陶瓷样品图 | 第40-41页 |
| ·透明氮化铝陶瓷的显微结构分析 | 第41-45页 |
| ·透明氮化铝陶瓷的显微结构 | 第41页 |
| ·影响透明氮化铝陶瓷性能的微观结构因素 | 第41-45页 |
| ·杂质相 | 第41-43页 |
| ·晶格缺陷结构 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 制备AIN透明陶瓷烧结助剂的研究 | 第46-57页 |
| ·烧结助剂的选择 | 第46-49页 |
| ·烧结助剂选择的基本原则与方法 | 第46-47页 |
| ·热力学分析 | 第47-48页 |
| ·相图分析 | 第48-49页 |
| ·掺加烧结助剂制备AIN透明陶瓷的研究 | 第49-56页 |
| ·与不掺加烧结助剂相比较 | 第49-53页 |
| ·实验过程与方法 | 第50页 |
| ·实验结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·不同添加剂含量对烧结体性能的影响 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 透明陶瓷的透光因素的研究 | 第57-65页 |
| ·透明机理 | 第57-59页 |
| ·影响因素 | 第59-64页 |
| ·吸收系数 | 第59页 |
| ·反射系数 | 第59-60页 |
| ·散射系数 | 第60-64页 |
| ·气孔 | 第60-62页 |
| ·晶界组织结构 | 第62页 |
| ·第二相 | 第62-63页 |
| ·晶粒排列方向 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 结论和展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73页 |
