| 第一章 引言 | 第1-15页 |
| ·多层膜发展概况 | 第8-10页 |
| ·极紫外、软X射线多层膜的应用领域 | 第10-12页 |
| ·X射线太阳望远镜 | 第11页 |
| ·X射线显微镜 | 第11页 |
| ·极紫外投影光刻 | 第11-12页 |
| ·X射线激光 | 第12页 |
| ·课题研究背景与主要研究内容 | 第12-15页 |
| 第二章 极紫外、软X射线多层膜理论与残余应力理论基础 | 第15-39页 |
| ·极紫外、软X射线多层膜理论 | 第15-28页 |
| ·材料在极紫外、软X射线波段的光学特性 | 第15-17页 |
| ·极紫外、软X射线在理想多层膜系中的反射 | 第17-19页 |
| ·极紫外、软X射线在非理想膜系中的反射 | 第19-24页 |
| ·材料选择 | 第24-25页 |
| ·基片 | 第25-28页 |
| ·多层膜应力理论基础 | 第28-38页 |
| ·热应力 | 第29-30页 |
| ·内应力 | 第30-31页 |
| ·张应力模型 | 第31-33页 |
| ·压应力模型 | 第33-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 低应力MO／SI多层膜的制备 | 第39-50页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·溅射原理 | 第39-41页 |
| ·磁控溅射法 | 第41页 |
| ·磁控溅射镀膜设备简介 | 第41-42页 |
| ·实际多层膜样品的制备 | 第42-49页 |
| ·镀膜沉积速率定标 | 第44-49页 |
| ·实际Mo／Si多层膜样品的制备 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 极紫外、软X射线多层膜检测方法及结果 | 第50-63页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·多层膜残余应力的测量方法 | 第50-52页 |
| ·多层膜应力测量结果及讨论 | 第52-61页 |
| ·单层膜应力实验测量结果 | 第52-53页 |
| ·应力随比率Γ值变化的实验测量结果 | 第53-55页 |
| ·应力随工作气压变化的实验测量结果 | 第55-60页 |
| ·低应力多层膜应力实验结果 | 第60-61页 |
| ·结果讨论 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 全文总结 | 第63-65页 |
| ·主要内容 | 第63-64页 |
| ·进一步工作展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 作者简历 | 第72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72-73页 |