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半导体化纳米铝及铝合金薄膜霍尔效应的研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-15页
第一章 绪论第15-27页
   ·课题背景第15页
   ·薄膜及其的制备方法第15-16页
   ·真空蒸发镀膜的原理及基本过程第16-20页
     ·真空蒸发镀膜的概述第16页
     ·真空蒸发镀膜的原理第16页
     ·真空环境的必要性第16页
     ·真空蒸发镀膜基本过程第16-18页
     ·薄膜形成的过程第18页
     ·蒸发的方法第18-20页
     ·薄膜质量的影响因素第20页
   ·金属膜的导电性质研究理论第20-21页
     ·连续金属膜导电的一些特点第21页
     ·金属薄膜的电阻率理论第21页
   ·霍尔效应的原理及应用第21-26页
     ·霍尔效应的发现与研究现状第22页
     ·经典霍尔效应的原理第22-24页
     ·霍尔效应的副效应第24-25页
     ·霍尔效应的应用第25页
     ·霍尔器件的发展和研究现状第25-26页
   ·本课题的研究目的、意义及内容第26-27页
     ·目的和意义第26页
     ·本文的工作内容第26-27页
第二章 实验及测试方法第27-35页
   ·实验材料及仪器汇总第27页
   ·真空蒸镀铝薄膜第27-30页
     ·真空蒸镀仪器介绍第27-28页
     ·蒸发源的选择第28页
     ·准备阶段第28-29页
     ·薄膜的制备第29-30页
   ·测试方法第30-33页
     ·膜厚测量第30页
     ·电阻率的测量第30-32页
     ·霍尔效应的测量实验装置的设计和实验操作第32页
     ·透光率的测量第32页
     ·表面形貌表征第32-33页
   ·薄膜的退火第33-35页
第三章 金属铝薄膜的电学性能及微观形貌第35-43页
   ·不同厚度铝膜的宏观形貌第35页
   ·铝膜的剖面形貌与不同厚度铝膜的表面形貌第35-38页
     ·铝薄膜的剖面形貌第35-36页
     ·不同厚度的铝膜的表面形貌第36-38页
   ·厚度对铝薄膜电学性能的影响第38-41页
     ·不同厚度铝膜电阻率的测量第38-39页
     ·不同厚度薄膜的伏安特性曲线第39-40页
     ·膜厚度对铝膜霍尔效应的影响第40-41页
 本章小结第41-43页
第四章 退火对铝膜表面形貌、电阻率及霍尔效应的影响第43-53页
   ·退火前后的表面形貌观察与分析第43-44页
   ·退火对铝膜电阻率的影响第44-48页
     ·退火的温度对铝膜电阻率的影响第44-46页
     ·退火时间对铝膜电阻率的影响第46-48页
   ·退火温度和退火时间对铝膜霍尔效应的影响第48-51页
   ·退火前后铝膜透光率变化第51-52页
 本章小结第52-53页
第五章 结论第53-55页
   ·主要结论第53页
   ·本论文的创新点第53-55页
参考文献第55-57页
致谢第57-58页
研究成果及发表的学术论文第58-59页
作者简介第59页
导师简介第59-60页
硕士研究生学位论文答辩委员会决议书第60-61页

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