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光固化树脂的制备与涂膜性能的研究

前言第1-9页
第一章 文献综述第9-29页
 1.1 辐射固化涂料概述第9页
 1.2 紫外光固化机理第9-10页
 1.3 光敏树脂种类第10-13页
  1.3.1 自由基类树脂第10-12页
   1.3.1.1 丙烯酸树脂体系第10-11页
   1.3.1.2 超支化聚酯丙烯酸体系第11页
   1.3.1.3 不饱和聚酯体系第11-12页
  1.3.2 阳离子类树脂第12-13页
 1.4 光敏引发剂引发反应机理第13-14页
  1.4.1 分裂反应第13页
  1.4.2 氢提取反应第13-14页
  1.4.3 离子型引发(电子转移引发)第14页
  1.4.4 二重态能量转移反应第14页
 1.5 光敏引发剂的种类第14-17页
  1.5.1 光-离子聚合引发剂第15页
  1.5.2 自由基引发剂第15页
  1.5.3 高分子光引发体系第15-16页
  1.5.4 复合引发剂第16页
  1.5.5 光敏助剂第16-17页
 1.6 固化反应第17-20页
  1.6.1 固化程度的评价第17-18页
  1.6.2 影响因素第18-20页
   1.6.2.1 灯第18-19页
   1.6.2.2 光引发剂/光敏剂和膜厚度的关系第19页
   1.6.2.3 周围氛围第19页
   1.6.2.4 基材第19-20页
   1.6.2.5 温度第20页
 1.7 涂膜的力学性质与附着力第20-28页
  1.7.1 涂膜的附着力第21-22页
  1.7.2 影响涂膜附着力的因素第22-23页
  1.7.3 涂膜的强度第23-26页
   1.7.3.1 应力应变曲线与聚合物的强度第23-24页
   1.7.3.2 涂膜的展性第24-25页
   1.7.3.3 涂膜的伸长与复原第25-26页
   1.7.3.4 涂膜的耐磨性第26页
   1.7.3.5 涂膜的抗冲性第26页
  1.7.4 影响涂膜强度的因素第26-28页
   1.7.4.1 聚合物分子结构第26-27页
   1.7.4.2 缺陷与应力集中第27页
   1.7.4.3 形态的影响第27-28页
   1.7.4.4 附着力的影响第28页
 1.8 本课题的研究内容第28-29页
第二章 基体树脂的合成第29-39页
 2.1 实验部分第29-35页
  2.1.1 主要原料第29-30页
  2.1.2 实验装置第30-31页
  2.1.3 合成工艺第31-33页
   2.1.3.1 无定形不饱和聚酯树脂的制备第31-32页
   2.1.3.2 半晶形不饱和聚酯树脂的制备第32页
   2.1.3.3 丙烯酸环氧树脂的制备第32-33页
   2.1.3.4 丙烯酸聚氨酯的制备第33页
  2.1.4 树脂配方第33-35页
   2.1.4.1 无定形不饱和聚酯第33页
   2.1.4.2 半晶形不饱和聚酯第33-34页
   2.1.4.3 丙烯酸环氧树脂第34页
   2.1.4.4 丙烯酸聚氨酯树脂第34-35页
 2.2 树脂的结构与性能第35-39页
  2.2.1 无定形不饱和聚酯第35-36页
  2.2.2 半晶形不饱和聚酯第36-37页
  2.2.3 丙烯酸环氧树脂第37页
  2.2.4 丙烯酸聚氨酯树脂第37-39页
第三章 光固化涂膜的制备和性能表征第39-45页
 3.1 粉末涂料的制备与涂装第39页
 3.2 光固化设备第39-42页
  3.2.1 紫外光固化设备的选用第39-41页
  3.2.2 紫外光固化设备第41-42页
 3.3 流平与固化条件选择第42页
 3.4 涂膜性能的表征第42-45页
第四章 光固化涂膜性能第45-58页
 4.1 无定型聚酯/丙烯酸环氧树脂体系(A体系)第45-50页
  4.1.1 涂膜的附着力与抗冲性能第46-48页
   4.1.1.1 平均官能度的影响第46-47页
   4.1.1.2 双键当量比的影响第47-48页
  4.1.2 涂膜的耐溶剂性能第48-49页
  4.1.3 涂膜硬度第49页
  4.1.4 涂膜光泽度第49-50页
 4.2 丙烯酸聚氨酯/聚酯(环氧)体系(B体系)第50-52页
  4.2.1 涂膜的附着力与抗冲性能第51页
  4.2.2 涂膜的耐溶剂性能第51-52页
  4.2.3 其它性能第52页
 4.3 无定型/半晶型不饱和聚酯体系(C体系)第52-57页
  4.3.1 涂膜的附着力与抗冲性能第54-56页
  4.3.2 涂膜的耐溶剂性能第56页
  4.3.3 涂膜硬度第56-57页
 4.4 涂膜性能总体比较第57-58页
第五章 结论与建议第58-60页
 5.1 结论第58-59页
 5.2 建议第59-60页
参考文献第60-63页
致谢第63页

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