镁合金微弧氧化过程控制与监测系统
| 插图索引 | 第1-8页 |
| 插表索引 | 第8-9页 |
| 摘要 | 第9-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·镁合金的腐蚀 | 第14-15页 |
| ·镁合金的防腐方法 | 第15-16页 |
| ·高纯镁合金开发 | 第15页 |
| ·快速凝固技术 | 第15页 |
| ·表面改性技术 | 第15-16页 |
| ·镁合金的微弧氧化处理技术 | 第16-18页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化工艺的特点 | 第17页 |
| ·微弧氧化膜层的特点及应用 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第18-21页 |
| ·国内研究现状 | 第18-19页 |
| ·国外研究现状 | 第19页 |
| ·几种已有的微弧氧化工艺 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化电源的研究现状 | 第20-21页 |
| ·课题的目标、任务及实现过程 | 第21-23页 |
| ·任务目标 | 第21页 |
| ·技术路线 | 第21-23页 |
| 第2章 实验平台 | 第23-30页 |
| ·实验平台及各种输出模式 | 第23-27页 |
| ·实验平台 | 第23-25页 |
| ·几种不同的电源输出方式 | 第25-27页 |
| ·试样材料及实验方法 | 第27-29页 |
| ·试样材料及制备 | 第27页 |
| ·电解液配制 | 第27-28页 |
| ·膜层质量检测 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 软件设计 | 第30-40页 |
| ·串行接口 | 第30-33页 |
| ·20mA 电流环串行通讯接口 | 第30-32页 |
| ·RS232 串行通讯接口 | 第32-33页 |
| ·监控软件设计 | 第33-39页 |
| ·VB 语言 | 第33-35页 |
| ·人机界面设计 | 第35-36页 |
| ·动态曲线的绘制 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 过程监控方案及工艺参数优化 | 第40-53页 |
| ·过程监控简介 | 第40页 |
| ·过程控制的一般步骤 | 第40-43页 |
| ·数据采集 | 第40-41页 |
| ·输出特性调节 | 第41-43页 |
| ·故障检测 | 第43页 |
| ·电源模式的选择 | 第43-45页 |
| ·四阶段的过程控制方案 | 第45-47页 |
| ·膜层生长过程及机理 | 第45-47页 |
| ·四阶段控制方案 | 第47页 |
| ·加载方式的制定 | 第47-52页 |
| ·恒压增幅加载方式 | 第48-50页 |
| ·恒定电流加载方式 | 第50-52页 |
| ·工艺参数的优化 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 总结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第58页 |
